«ФИЗИКА-ҚУЁШ» ИЛМИЙ ИШЛАБ ЧИҚАРИШ БИРЛАШМАСИ
ФИЗИКА-ТЕХНИКА ИНСТИТУТИ, ИОН-ПЛАЗМА ВА ЛАЗЕР
ТЕХНОЛОГИЯЛАРИ ИНСТИТУТИ ВА САМАРҚАНД ДАВЛАТ
УНИВЕРСИТЕТИ ҲУЗУРИДАГИ ФАН ДОКТОРИ ИЛМИЙ
ДАРАЖАСИНИ БЕРУВЧИ 16.07.2013.FM/T.12.01 РАҚАМЛИ
ИЛМИЙ КЕНГАШ
_________________________________________________________________
«ФИЗИКА-ҚУЁШ» ИЛМИЙ ИШЛАБ ЧИҚАРИШ БИРЛАШМАСИ
ФИЗИКА-ТЕХНИКА ИНСТИТУТИ
РАХМАТОВ АХМАД ЗАЙНИДИНОВИЧ
ЯРИМЎТКАЗГИЧЛИ ЮҚОРИ ЧАСТОТАЛИ ВА ЧЕКЛАГИЧ
ДИОДЛАР ТАЙЁРЛАШ ТЕХНОЛОГИЯСИНИ ИШЛАБ ЧИҚИШ,
УЛАРНИНГ ПАРАМЕТРЛАРИНИ ТЕРМО- ВА РАДИАЦИОН
ТАЪСИРДА ОПТИМАЛЛАШТИРИШ
01.04.10 – Яримўтказгичлар физикаси
(техника фанлари)
ДОКТОРЛИК ДИССЕРТАЦИЯСИ АВТОРЕФЕРАТИ
Тошкент – 2014
2
УДК: 621.315.592.2
Докторлик диссертацияси автореферати мундарижаси
Оглавление автореферата докторской диссертации
Content of the abstract of doctoral dissertation
Рахматов Ахмад Зайнидинович
Яримўтказгичли юқори частотали ва чеклагич диодлар тайёрлаш
технологиясини ишлаб чиқиш, уларнинг параметрларини термо- ва
радиацион таъсирда оптималлаштириш.......................................................
3
Рахматов Ахмад Зайнидинович
Разработка технологии изготовления полупроводниковых высокочас-
тотных и ограничительных диодов, оптимизация их параметров при
термо- и радиационном воздействии................................
29
Rakhmatov Akhmad Zaynidinovich
Development of semiconductor high-frequency and suppressor diodes
manufacturing technology, optimisation of their parameters under thermal
and radiation influence….…………………………………………………....
55
Эълон қилинган ишлар рўйхати
Список опубликованных работ
List of published works ………………………………………………...…..
77
3
«ФИЗИКА-ҚУЁШ» ИЛМИЙ ИШЛАБ ЧИҚАРИШ БИРЛАШМАСИ
ФИЗИКА-ТЕХНИКА ИНСТИТУТИ, ИОН-ПЛАЗМА ВА ЛАЗЕР
ТЕХНОЛОГИЯЛАРИ ИНСТИТУТИ ВА САМАРҚАНД ДАВЛАТ
УНИВЕРСИТЕТИ ҲУЗУРИДАГИ ФАН ДОКТОРИ ИЛМИЙ
ДАРАЖАСИНИ БЕРУВЧИ 16.07.2013.FM/T.12.01 РАҚАМЛИ
ИЛМИЙ КЕНГАШ
_________________________________________________________________
«ФИЗИКА-ҚУЁШ» ИЛМИЙ ИШЛАБ ЧИҚАРИШ БИРЛАШМАСИ
ФИЗИКА-ТЕХНИКА ИНСТИТУТИ
РАХМАТОВ АХМАД ЗАЙНИДИНОВИЧ
ЯРИМЎТКАЗГИЧЛИ ЮҚОРИ ЧАСТОТАЛИ ВА ЧЕКЛАГИЧ
ДИОДЛАР ТАЙЁРЛАШ ТЕХНОЛОГИЯСИНИ ИШЛАБ ЧИҚИШ,
УЛАРНИНГ ПАРАМЕТРЛАРИНИ ТЕРМО- ВА РАДИАЦИОН
ТАЪСИРДА ОПТИМАЛЛАШТИРИШ
01.04.10 – Яримўтказгичлар физикаси
(техника фанлари)
ДОКТОРЛИК ДИССЕРТАЦИЯСИ АВТОРЕФЕРАТИ
Тошкент – 2014
4
Докторлик диссертацияси мавзуси Ўзбекистон Республикаси Вазирлар Маҳкамаси
ҳузуридаги Олий аттестация комиссиясида
30.09.2014/В2014.5.Т 266 рақам билан
рўйхатга олинган.
Докторлик диссертацияси ЎзР ФА Физика-техника институти ва ОАЖ «FOTON»да
бажарилган.
Докторлик диссертациясининг тўла матни ЎзР ФА Физика-техника институти, Ион плазма
ва лазер технологиялари институти ва Самарқанд давлат университети ҳузуридаги
16.07.2013.FM/T.12.01 рақамли фан доктори илмий даражасини берувчи Илмий кенгаш веб-
саҳифасига (
kengash.fti.uz)
жойлаштирилган.
Диссертация автореферати уч тилда (ўзбек, рус, инглиз) илмий кенгашнинг веб-саҳифасига
(
kengash.fti.uz)
ва “ZiyoNet” Ахборот-таълим порталига (
www.ziyonet.uz)
жойлаштирилган.
Каримов Абдулазиз Вахитович
физика-математика фанлари доктори, профессор
Илмий маслаҳатчи:
Расмий оппонентлар:
Улимов Виктор Николаевич
техника фанлари доктори, профессор
Касымахунова Анора Мамасадыковна
техника фанлари доктори, профессор
Тагаев Марат Баймуратович
техника фанлари доктори, профессор
Етакчи ташкилот
:
Тошкент давлат техника университети
Диссертация ҳимояси ЎзР ФА Физика-техника институти, Ион плазма ва лазер
технологиялари институти ва Самарқанд давлат университети ҳузуридаги 16.07.2013.FM/T.12.01
рақамли Илмий кенгаш
асосида 01.04.10 ихтисослиги бўйича (техника фанлари) тузилган
бир марталик илмий кенгаш
нинг «____»____________2014 й. соат ____даги мажлисида бўлиб
ўтади (Манзил: 100084, Тошкент, Бодомзор йўли кўчаси, 2б-уй. Тел./факс: (99871) 235-42-91
, e-
mail:
lutp@uzsci.net
).
Докторлик диссертацияси ЎзР ФА Физика-техника институти Ахборот-ресурс марказида 01
рақами билан рўйхатга олинган, диссертация билан АРМ да танишиш мумкин (Манзил: 100084,
Тошкент, Бодомзор йўли кўчаси, 2б-уй. Тел./факс: (99871) 235-30-41).
Диссертация автореферати 2014 йил «___»___________ да тарқатилди.
(2014 йил _____________ даги ____ рақамли реестр баённомаси).
С.Л. Лутпуллаев
Фан доктори илмий даражасини берувчи
илмий кенгаш раиси ф.-м.ф.д., профессор
М.Н. Турсунов
Фан доктори илмий даражасини берувчи
бир марталик илмий кенгаш илмий котиби
т.ф.д.
И.Г. Атабаев
Фан доктори илмий даражасини берувчи
илмий кенгаш ҳузуридаги илмий семинар раиси
ф.-м.ф.д.,
профессор
5
ДОКТОРЛИК ДИССЕРТАЦИЯСИ АННОТАЦИЯСИ
Диссертация мавзусининг долзарблиги ва зарурияти.
Ўзбекистон
Республикаси Президентининг 2010 йил 15 декабрдаги ПҚ-1442–сонли
«2011–2015 йилларда Ўзбекистон Республикаси саноатини ривожлантириш-
нинг устувор йўналишлари тўғрисида»ги қарорига асосан саноат ишлаб
чиқаришининг самарадорлигини ошириш биринчи навбатдаги масалалардан
ҳисобланади. Шунинг учун «FOTON» ОАЖ ишлаб чиқарилаётган кучланиш
чеклагичлари, юқори частотали тўғрилагич диодлар ишлаб чиқариш
таннархини ва харажатларини пасайтириш уларнинг параметрларини
яхшилаш ва ишончлилигини ошириш ҳамда улар технологиясини
оптималлаштириш каби мақсадли ишларни олиб боришни кўзда тутади. Бу
эса маҳсулот рақобатбардошлигини оширишнинг муҳим омили бўлиб,
эришилган бозор эҳтиёжларини сақлаш ва янги харидорлар топиш манбаи
ҳисобланади.
АҚШ, Канада, Голландия, Хитой ва Япония чет мамлакатлари
олимлари томонидан қўйилган импульсли кучланишларнинг ошиб кетиши
натижасида электрик ва радиоэлектрон асбобларнинг ишдан чиқишининг
олдини олиш соҳасида юқори вольтли кучланиш чеклагичлари ва улар
асосида барқарорлаштирувчи қурилмалар ишлаб чиқиш ва тадқиқ қилиш
масалалари талабга сазовор.
Бу қувватли диодлар электр энергиясини ўзгартгич қурилмаларида,
истеъмол тизимлари ва технологик жараёнларни бошқаришда кенг
қўлланилади. Уларни тайёрлашда юқори кучланишли диодлар учун кенг
қўлланилувчи кремнийни бор ва фосфор билан легирлаш диффузион
технологиялари ишлатилади. Аммо кичик кучланишли чеклагичларга
нисбатан кичик дифференциал қаршилик олишга имкон бермайди, бунга эса
р-n
-ўтиш чегарасида ток ташувчилар концентрациясининг кес-кин фарқини
таъминловчи киритма ишлатиш орқали эришиш мумкин. Бу муаммони ечиш,
юқори концентрацияли манба – маргимуш ишлатиш йўли билан тайёрлаш
мумкин бўлган диффузант олишга имкон берувчи, янги физик ёндашишни
талаб қилади. Бундан ташқари, қувватли диодларнинг ишлаш самарадорлиги
чеклагичларнинг
номинал
коэффициенти,
тешилиш
кучланиши
характеристикаларининг кескинлиги билан аниқланади. Ишчи режимда
қувватли диодлар кучли импульслар таъсирида иссиқлик ажратади ва уларни
оптималлаштириш контакт соҳалари билан бирга бутун тизим узунлигида
иссиқлик ўтказувчанликнинг физик анализи асосида амалга ошириш мумкин.
Диссертациянинг бажарилишига зарурият қувватли диодларнинг
технологик бузилишини камайтириш ва мустаҳкамлигини ошириш,
қўлланиш
соҳасини
кенгайтириш
ҳамда
қувватлар
динамик
исрофгарчилигини камайтириш муаммоларига мақсадга мувофиқ ёндашувни
талаб
қилувчи
масалаларга
боғлиқ
бўлган
қувватли
импульсга
чидамлилигини оширилиши, радиоэлектрон асбобларни ҳимоялаш ва
саралаш қурилмаларини ҳамда такомиллаштирилган технологияларни жорий
қилиш кераклигидан келиб чиқади.
6
Шу билан бирга, баъзи ҳолатларда асбобни занжирдан узиш
натижасида кутилмаганда ток қиймати ошиб кетишидан сақлаш муаммоси
пайдо бўлиши, ток импульси таъсиридан сўнг қайтувчи параметрли ток
чеклагичларини яратиш лозимлигини тақозо этади.
Юқорида айтилганлардан келиб чиқадики, танланган объект параметр-
ларининг комплекс тадқиқоти ва уларни яратиш технологиясининг физик
аспектлари (масалан, диффузия ва радиацион усуллар билан), конструкцияни
оптималлаштиришга йўналтирилган ва текшириш учун танлаб олинган
объектларни яратиш технологияси ва шу асосда асбоб параметрларини ўзаро
мос бўлишига эришиш, шунингдек, уларнинг радиацион барқарор бўлишини
ҳам эътибордан четда қолдирмаслик ўта долзарб ҳисобланади.
Тадқиқотнинг Ўзбекистон Республикаси фан ва технологиялар та-
раққиётининг
устувор
йўналишларига
мослиги.
Ушбу тадқиқот
Ўзбекистон Республикасининг фан ва технологиялар тараққиётининг устувор
йўналишларига мос ҳолда АТД-3 ‒ «Энергетика, энергоресурсларни тежаш,
транспорт, машина ва асбобсозлик; электрон асбобсозлик ва фотоника,
микроэлектроника, замонавий электроникани ривожлантириш» дастури
асосида бажарилган.
Диссертация мавзуси бўйича халқаро илмий тадқиқотлар шарҳи.
Ҳар хил турдаги (кучланиш чеклагичлари, стабилитронлар, тиристорлар,
юқори частотали тўғриловчичеклагич) қувватли яримўтказгичли диодлар
ишчи параметрлари ва уларни олиниш технологияси тадқиқотлари АҚШ,
Канада,
Англия,
Голландия,
Хитой,
Россия
каби
мамлакатларда
радиоэлектроника ҳамда автомобиль саноатидаги талабларни ҳисобга олган
ҳолда изчиллашаяпти ва аниқ муваффақиятларга эришилган.
Philips Semiconductors, STMicroelectronics, Littelfuse, Moeser Electronics,
ON Semiconductor, SGS-Thomson, Центр «СЭЛТ» ва бошқа йирик
компанияларнинг мақолаларида олиб борилаётган тадқиқотлар параметрлари
яхшиланган, ортиб бораётган талабларни қондирувчи қувватли диодлар
ишлаб чиқишга йўналтирилганлиги қайд қилинган. Тадқиқотларда қувватли
яримўтказгичли диодларнинг ишчи параметрларини оптималлаштириш ва
мустаҳкамлигини
оширишга
бағишланган
ишларнинг
зарурлиги
ва
долзарблигига эътибор қаратилган.
Шу муносабат билан катта қувватли диодларни тайёрлашнинг янги
технологияларини ишлаб чиқиш ва жорий технологияларни такомиллаш-
тириш етакчи илмий тадқиқот марказларининг диққат марказида турибди.
Хусусан,
диффузион
технология
асосида
тайёрланган
аналоглар
параметрларидан афзал кўрсаткичга эга бўлган кичик вольтли кучланиш
чеклагичларини тайёрлаш эпитаксиал технологияни қўллаш орқали амалга
оширилиши мумкинлиги Sigetronics Inc. фирма тадқиқотчилари томонидан
кўрсатилган. Қувватли диодлар параметрларига радиацион таъсирни
ўрганиш тадқиқотларнинг бошқа бир йўналиши бўлиб, технологик
жараёнлар
ниҳоясига
етгандан
сўнг
диодларнинг
параметрларини
оптималлаштириш имконини беради. Масалан, швейцариялик олимлар
томонидан кремнийли кучли қувватли диодларнинг базасини палладий билан
7
радиацион легирлаш йўли орқали платина билан легирланган диодларга
нисбатан кам яшаш даври олинган.
Муаммонинг ўрганилганлик даражаси.
Ҳозирги кунда кремний
асосида юқори частотали диод ва кучланиш чеклагичларини яратиш
технологияси ва уларнинг параметрларини оптималлаштиришга бағишланган
бир қатор назарий ва экспериментал ишлар олиб борилмоқда. Уларнинг
кўпчилиги кучли қувватли диодларнинг эксплуатацион параметрларини
конструктив ва схемотехник усуллар билан оптималлаштиришга ёки
комбинацион технологиялар қўллашга (диффузия билан биргаликда лазер
технологияси, радиация билан биргаликда ион имплантация) бағишланган.
Бироқ, қўлланилаётган диффузия технологиясини юқори частотали диод ва
кучланиш
чеклагичларига
нисбатан
модернизациялаш
ва
оптимал
арматурасини яратиш диққатга сазовордир. Муаммони муваффақиятли ҳал
бўлиши ишлаб чиқаришни деярли ҳеч қандай реконструкциясиз нафақат
маҳсулот параметрларини яхшилаши, балки кремний
p
-n
,
р
p-n
ва
p
p-
nn
-
тузилмаларнинг техник иқтисодий кўрсаткичлари ҳам яхшиланишига
олиб келади.
Шу билан бирга, аксарият ҳолатларда биргина электрон схемада икки
жуфт, баъзида бир нечта кучланиш чеклагичларининг параметрлари мутлақо
бир хил бўлиши лозим. Бироқ, асбоб тузилмалар яратишдаги технологик
операциялар натижасида нуқсонлар, эксплуатацион характеристикаларида
эса фарқлар ҳосил бўлади. Шу сабабли юқори частотали диод ва кучланиш
чеклагичларини маълум белгиланган параметрлар билан яратиш технология-
сидан фойдаланилади.
Бугунги кунда долзарб муаммо бўлган тўғриловчи ўтишида
ташувчилар концентрацияси градиентли бўлган яримўтказгичли юқори
частотали ва чеклагич диодларни тайёрлаш диффузион технологияси ҳамда
уларнинг
эксплуатацион
параметрларини
оптималлаштириш
ва
идентификациялаш методлари тўғрисида ҳозиргача мавжуд ишларда
маълумотлар йўқ.
Радиацион-технологик жараёнларни қўллаш қувватли диодларнинг
тезкорлиги ва ишончлилигини оширишни таъминлайди. Бироқ, гап шундаки,
ҳар сафар радиацион таъсирни танлашда маҳсулот параметрларининг
оптимал мослашиш муаммоларини ҳал қилиш керак бўлади. Натижада
p-n
-
ўтиш соҳаси турли технологик усуллар билан яратилган (планар технология,
мезадиффузион усул ва б.) диоднинг параметрларини оптимал мослаш учун у
ёки бу радиацион таъсирни қўллашнинг умумий йўл-йўриқларини ишлаб
чиқиш лозим. Шунинг учун барқарорликни кўтариш ҳисоблари долзарб
мухандислик муаммоси бўлиб, унинг ечилиши бу синфга тегишли
асбобларнинг қўлланиш соҳасини (ва, албатта, маҳсулотни сотиш имконини
ҳам) кенгайтиради.
Яна бошқа бир муаммо шундаки, қувватли асбобларни ‒ кучланиш
чеклагичларини, юқори частотали диод тўғрилагичларини характерлайдиган
параметрларни ўрганишнинг бизга маълум усуллари аниқлик нуқтаи
8
назаридан қониқтирмайди. Яъни стабилитрон параметрларини аниқлаш учун
ишлатилаётган усуллар корректив эмас.
Шундай қилиб, яримўтказгич асосли юқори частотали диод ва
кучланиш чеклагичларининг оптимал технологияси ва параметрларини
оптималлаштириш долзарб муаммо бўлиб, ҳозирга қадар олиб борилган
илмий ишларда бу соҳа тўлиқ ёритилмаган.
Диссертация тадқиқотининг илмий тадқиқот ишлари режалари
билан боғлиқлиги:
тақдим этилаётган иш «Физика-Қуёш» ИИЧБ Физика-
техника институтининг А3-ФА-0-10-440 «Яримўтказгичли асбоблар камёб
гуруҳларини ишлаб чиқаришда яроқли чиқишини ошириш учун термик ва
электримпульсли ишлов бериш усулларини яратиш (ОАЖ «FOTON»)»
давлат дастури асосида бажарилган.
Тадқиқотнинг мақсади
дифференциал қаршилиги кичрайтирилган
кремний диоди тузилмаларини ишлаб чиқаришнинг оптимал диффузион
технологиясини ишлаб чиқиш ва юқори частотали тўғрилагич диод ва
кучланишни чеклагичларнинг сифатини яхшилаш, ишончлилигини радиация
таъсирида кўтаришдан иборат.
Мақсадга эришиш учун ишда қуйидаги
тадқиқот вазифалари
қўйилди:
қисқа вақтли кучланиш ошиб кетишининг қувватли импульслари
таъсирига бардош берувчи
p-n
-ўтиш чегарасида қоришмалар концентрацияси
катта градиентли бўлган кичик вольтли структуралар тайёрлаш учун
кремнийга фосфор билан легирлашга нисбатан чекланмаган манбадан юқори
концентрацияли маргимушни диффузия қилиш технологиясини ишлаб
чиқиш;
жараёндан жараёнга кремнийли кичик вольтли
р-п-
ўтишлар олинишида
асосий электр параметрлари фарқланишининг камайишини таъминловчи
иссиқлик таъсири шароитларини ишлаб чиқиш;
контакт материали билан яримўтказгич чегарасида ўтказиш эффекти
минимал бўлган омик контакт олиш усулини ишлаб чиқиш;
кучланиш чеклагичларининг функционал параметрларини ўлчашнинг
физикавий асосланган универсал усулларини ишлаб чиқиш. Бу ҳолатда
кучланиш
чеклагичларининг
эффективлик
коэффициенти
ва
ўлчаш
режимини
ҳисобга
олиб,
чекланиш
кучланишини
аниқлашнинг
такомиллашган усулини ишлаб чиқиш талаб қилинади;
диод конструкциясининг қисмларида, уланиш режимига боғлиқ бўлган,
импульс қувватининг ажралиш ва ютилиш механизмини тушунтирувчи
кучланиш чек-лагичининг иссиқлик моделини ишлаб чиқиш;
p-n-
ўтиши турли усуллар билан тайёрланган кучли тўғриловчи диодлар
учун оптимал шароитлар ва радиацион таъсир технологик режимларини
аниқлаш;
эксплуатация
параметрларини
таққослаш
учун
кучланиш
чеклагичининг кучланиш тешилишига радиация таъсирини ўрганиш;
кучланиш чеклагичини муҳофазалаш учун арсенид галлий асосидаги
ток чеклагичини ишлаб чиқиш.
9
Тадқиқот объекти:
p
+
n
+
,
p
+
-n-n
+
, шунингдек,
p
+
-p-n-n
+
-тузилмали,
кичик ва юқори вольтли кремний асосида кучланиш чеклагичлари, юқори
частотали тўғрилагич диодлар ва арсенид галлий асосида яратилган ток
чеклагичлар.
Тадқиқот предмети
– кремнийни маргимуш билан легирлаш жараёни,
юқори частотали диодлар ва кучланиш чеклагичларини радиацион нурланиш
таъсирида эксплуатацион параметрларини идентификациялаш модели,
яримўтказгич сиртида адгезияси яхшиланган омик контакт олиш.
Тадқиқот усуллари.
Тадқиқот жараёнида вольтампер ва вольтфарад
характеристика
усуллари,
радиация
таъсири,
сиртий
қаршиликни
аниқлашнинг зондли ўлчаш усуллари, дифференциал ўтказувчанлик
усуллари, моделлаш усулларидан фойдаланилган.
Диссертация тадқиқотининг илмий янгилиги
қуйидагилардан
иборат:
илк бор маргимуш билан легирланган кремний
р
+
-n
+
-структураси
асосида манба блоклари муҳофазаси учун кичик вольтли (< 7 В) кучланиш
чеклагичлари олиш технологияси яратилган;
илк бор
кремний
р
+
-p-n-n
+
-структураси асосида эффектив иссиқлик
тарқатувчи контактли қувватли (10А) тўғрилагич-чеклагич диодлар олиш
усули ишлаб чиқилган;
илк бор қувватли
р
+
-p-n-n
+
-ўтишли диодларга 450
С
о
да қотадиган икки
қаватли кумуш ва ванадий асосида уч қатламдан иборат омик контакт олиш
усули ишлаб чиқилди, иссиқлик узатувчи компенсатор сифатида гальваник
усулда кумуш билан қопланган мис қатлами танланган;
кучланиш чеклагичи параметрларини ўлчайдиган – универсал икки
генераторли, хатолиги бир генераторли усулга нисбатан уч марта кам бўлган
янги усул ишлаб чиқилган;
илк бор арсенид галлий асосида, омик контактли, биринчи тип таглик,
бири иккинчисидан маълум масофада жойлашган иккита омик контактли,
иккинчи тип ўтказувчан юпқа қатламдан ва омик контактга уланган
электродлардан иборат ярим ўтказгич асбоб ишлаб чиқилган;
кучланиш чеклагичи самарадорлигини қаршилик билан ток зичлиги
орасидаги боғлиқлик асосида, кенг тешилиш токи соҳасида аниқлаш усули
ишлаб чиқилган;
ҳарорат потенциали ва иссиқлик оқими генераторлар сифатида уланиш
ва импульсли кучланиш бериш шароитида, иссиқликни узатиш ва
p-n
-
ўтишни
қизиш
температурасини
ҳисоблашга
асосланган,
иссиқлик
моделлари ишлаб чиқилган;
кучланиш чеклагичи ва юқори частотали диодлар параметрларининг
оптимал мослашишини таъминлайдиган радиацион технологик таъсирлар
турини аниқлашнинг муҳандислик услуби ишлаб чиқилган;
илк бор кучланиш чеклагичининг ишдан чиқиш фурсатини қайд
қилувчи радиоэлектрон аппаратурани
ҳимоя этувчи қурилма ишлаб
чиқилган.
10
Тадқиқотнинг амалий натижалари
қуйидагилардан иборат:
металл ўтказгичга яқин бўлган, кучли легирланган соҳали кичик
вольтли кучланиш чеклагичлари олишнинг технологик шарт-шароитлари,
легирлашда маргимушни кремнийга ноанъанавий тарзда диффузиялаш
технологик шароитлари ишлаб чиқилган;
кучланиш чеклагичининг импульс характеристикаларини текшириш-
нинг
такомиллашган
компенсацион
усули,
шунингдек,
уларнинг
дифференциал қаршилигини ток билан боғланиш хоссасига асосланган
кучланишни чеклаш самарадорлик коэффициентини аниқлашнинг янги
усули таклиф қилинган;
қувватга чидамлилигини оширишни таъминловчи кучли тўғриловчи-
чеклагичли
қуршаб
олувчи
диодлар
тайёрлашнинг
технологик
ва
конструктив аспектлари ишлаб чиқилган;
юқори
частотали
ва
чекловчи
диодлар
параметрларининг
оптимизацияси ва радиоэлектрон аппаратураларни ток ва кучланиш бўйича
муҳофазалаш қурилмаси таклиф қилинган;
оптимал материаллар ва кучланиш чеклагичларининг истеъмол бозори
талабларига
мос
рақобатбардошлигини
ошириш
сари
йўналган
конструкторлик ечимларини очиб берувчи муҳандислик ҳисоблашлар ишлаб
чиқилган;
кучланиш чеклагичлари, юқори частотали диодларнинг параметр-
ларини оптималлаштирувчи радиация тури ва дозаларини қимматбаҳо
изланишлар ўтказмасдан аниқлаб берувчи муҳандислик усуллари таклиф
қилинган;
технологик радиацион жараёндан сўнг маҳсулот параметрларини
башорат қилишни, нурланишнинг оптимал дозасини аниқлашни ва шу билан
бирга технологик жараённинг ишлаб чиқариш маҳсулотдорлигини ва
сифатли маҳсулот чиқишини ошириб берувчи юқори частотали тўғрилагич
диодларнинг асосий параметрларини ҳисоблашнинг муҳандислик усуллари
ишлаб чиқилган.
Олинган натижаларнинг ишончлилиги
физик жараёнларни тадқиқ
қилишда умумқабул қилинган илмий услублар, стандартлашган ва завод
шароитида апробациядан ўтган тадқиқот услубларининг қўлланилиши билан
тасдиқланган. Хулосалар назарий ҳисоблашларга мос келувчи экспериментал
натижаларга асосланган.
Тадқиқот натижаларининг назарий ва амалий аҳамияти.
Ишлаб
чиқилган кучланиш чеклагичлари ва тўғирловчи-чеклагич қуршаб олувчи
диодлар радиоэлектрон аппаратураларни электр занжирларда кучланиш
ортиб кетишидан сақлаш учун, юқори частотали диодлар эса қурилмаларда
энергияни ўзгартириш ҳамда тўғрилаш учун қўлланилади.
Тадқиқот
натижаларининг
жорий
қилиниши
.
Тадқиқотлар
натижаси асосида қилинган ихтироларга 3та Ўзбекистон Республикаси
патенти (№ IAP 04599 04.10.2012й., № IAP 04721 03.05.2013й., № IAP 04571
22.08.2012й.) ва 1та Россия патенти (№ 2522786 21.05.2014й.) олинган.
Тадқиқотлар натижасида кичик вольтли кучланиш чеклагичлари ва юқори
11
частотали тўғриловчи-чеклагич диодлар технологияси ишлаб чиқилган ҳамда
кучланиш
чеклагичларининг
характеристикаларини
оптималлаштириш
услублари ОАЖ «FOTON» да ишлаб чиқаришга жорий этилиб, йиллик
иқтисодий самара 78 млн сўмни ташкил этган («Ўзэлтехсаноат»
Ассоциациясининг 12.12.2013 йилдаги жорий қилинганлик далолатномаси).
Ишнинг апробацияси.
Диссертация иши натижалари 11 та илмий-
амалий анжуман ва конференцияларда, жумладан, «Современные информа-
ционные и электронные технологии» (Одесса, 2011; 2013); «Физиканинг
фундаментал ва амалий масалалари» (Ташкент, 2010); «Современные инфор-
мационные и электронные технологии» (Одесса, 2010; 2013); «Young Scien-
tists Conf. Optics and High Tech. Mater. Sci. SPO-2010» (Kyiv, 2010); «Совре-
менные техники и технологии горно-металлургической отрасли и пути их
развития» (Навои, 2010); II Международная конференция по «Оптическим и
фотоэлектрическим явлениям в полупроводниковых микро- и нано структу-
рах» (Фергана, 2011), «International Conference Nuclear science and its applica-
tion» (Samarkand (Uzbekistan) September 25-28, 2012) муҳокама қилинган.
Диссертация ишининг асосий натижалари ЎзР ФА «Физика-Қуёш»
ИИЧБ Физика-техника институти яримўтказгичлар йўналиши бўйича
кенгайтирилган семинарида (2014йил май) ҳамда Физика-техника институти,
Ион плазма ва лазер технологиялари институти ва Самарқанд давлат
университети ҳузуридаги 16.07.2013.FM/T.12.01 рақамли Илмий кенгаш
асосида 01.04.10 ихтисослиги бўйича (техника фанлари) тузилган бир
марталик илмий кенгаш қошидаги илмий семинарда (2014йил август)
муҳокама қилинган.
Натижаларнинг эълон қилинганлиги.
Олинган натижалар 35 та
илмий ишларда акс эттирилган бўлиб, улардан 18та мақола чет эл ва 2та
республика журналларида, 4 патентда, 11 халқаро ва республика
конференцияларида чоп этилган.
Диссертациянинг тузилиши ва ҳажми.
Диссертация кириш, бешта
боб, хулоса ва 139 та фойдаланилган адабиётлар рўйхати 203 саҳифа матн, 88
та расм, 12 та жадвалдан иборат.
ДИССЕРТАЦИЯНИНГ АСОСИЙ МАЗМУНИ
Кириш
қисмида
муаммонинг
ва
диссертация
мавзусининг
долзарблиги асосланган, мақсад ва вазифалар ёритилган, ишнинг илмий ва
амалий аҳамияти, ҳимояга олиб чиқиладиган асосий ҳолатлар келтириб
ўтилган.
Биринчи бобда
юқори частотали диод ва кучланиш чеклагичларининг
асосий параметрлари ва уларни оптималлаштириш муаммолари бўйича
адабиётларда
шу
кунга
қадар
бўлган
маълумотлар
келтирилган.
Параметрларни
оптималлаштиришнинг
конструктив
ва
схемотехник
усуллари кўриб чиқилган ва
p
-n
-ўтишли кичик вольт қувватли диодларни
олиш технологияси таҳлил қилинган. Параметрларни ўлчашнинг маълум
усуллари ва чеклагичларнинг самарадорлигини ошириш, шунингдек,
12
яримўтказгич асбобларнинг параметрларини радиацион оптималлаш-тириш
усуллари таҳлил қилинган. Хулосага кўра, маргимушни кремнийга юқори
концентрацион диффузиялаш йўли билан кичик вольтли
p
-n
-ўтишли
тузилмаларни олиш фосфор билан легирланган тузилмаларга нисбатан яхши
электр параметрларга эга бўлишига олиб келиши таъкидланган. Радиацион
нурланиш билан юқори частотали диод ва кучланиш чеклагичларининг
тешилиш кучланиши, тезкор ишлаши каби параметрларини оптимал-
лаштириш мумкинлиги таъкидланган.
Иккинчи бобда
кичик вольтли чеклагичларни маргимушни кремнийга
чекланмаган манбадан диффузиялаш билан яратишнинг физик-технологик
шароитлари, қувватли тўғирловчи-чеклагич диодларни олиш технологияси,
яримўтказгич сиртига яхши адгезияли омик контактларни олиш усуллари,
кремнийли
p
-n
, p
-n-n
и p
р-n-n
-
тузилмалар асосида яратилган қувватли
диодларнинг асосий характерис-тикалари келтирилган. Кичик вольтли
кучланиш чеклагичларининг маргимушни кремнийга ампула ёрдамида
диффузия қилиш усулида яратишнинг физик-технологик афзалликларини
ўрганиш асосида, илк бор диффузияланувчининг таркиби (450 мг
As
, 5 г
Si)
топилган. Ушбу таркиб, анъанавий фосфор диффузиясидан фарқли ўлароқ,
кичик вольтли
p
-n
-
ўтишда юқори сиртий концентрация ва тешилиш
кучланиши кам фарқланишини таъминлайди (1-жадвал).
1-жадвал
Турли диффузия манбалари учун р-п ўтишлар
тешилиш кучланишининг ўртача квадратик ўзгариши
база
,
Ом
см
150 мг
As
U, В
200 мг
As
U, В
350 мг
As
U, В
Лигату-
ра*
U, В
250 мг
As
,
5 г
Si
U, В
450 мг
As
,
5 г
Si
U, В
0.001
1.23
0.67
0.54
0.25
0.10
0.08
0.002
1.17
0.50
0.83
0.37
0.15
0.18
0.003
0.81
0.28
0.35
0.30
0.18
0.16
0.005
0.30
0.23
0.37
0.32
0.23
0.18
0.008
0.54
0.40
0.41
0.47
0.33
0.24
*‒лигатура ‒ вакуумда 1000
0
С да 48 с давомида куйдирилган
р
-тип кремнийнинг
маргимуш билан ховончада майдаланган кукуни
Кичик вольтли кучланиш чеклагичи маргимуш ва фосфор билан легирланган.
Шунингдек, чет эл аналоглари кучланиш чеклагичларнинг тешилиш
характеристикаларини солиштириш шуни кўрсатадики, маргимуш диффу-
зияси билан тайёрланган кучланиш чеклагичида қуйи ўтказувчанлик
соҳасидан юқори ўтказувчанлик соҳасига ўтиш кузатилади (1-расм).
Диодларда контакт мукаммал бўлмаганлиги сабабли, қувват йўқоли-шини
камайтириш учун, омик контакт материали сифатида никель ва олтин ўрнига
ваннадий билан икки қатлам кумуш ўтказиш тавсия этилади.
Тавсия этилган материалнинг адгезия ва иссиқлик хоссалари яхшилиги
сабабли, ундан тўғриловчи-чеклагич диодлар тайёрлашда ҳам фойдаланил-
ган. Илк бор ишлаб чиқилган қувватли тўғриловчи-чеклагичли қуршаб
олувчи
p
р-n-n
-
тузилмали диодлар тайёрлаш технологиясида
р
-тип ўтказув-
13
0 ,0
4 ,0 x 1 0
-5
8 ,0 x 1 0
-5
1 ,2 x 1 0
-4
0 ,0
0 ,2
0 ,4
0 ,6
0 ,8
1 ,0
R /R
м а к с
I
о б р
, А
2
1
1
A s
2
P
1-расм.
Кучланиш чеклагичи
дифференциал қаршилигининг
тескари токга боғлиқлиги
чанлик соҳаси ва кучли легирланган
n
- ва
р
- тип ўтказувчанлик соҳалари
диффузия усулида олинади, иккала сиртига юпқа (0.1÷0.3 мкм) ванадий ва
кумуш қатламлар пуркалади ҳамда вольфрам диски кумушланган мис
қатламига алмаштирилади. Таклиф қилинган диодларнинг аналогдан фарқи
шундаки, ишлаб чиқилган диоднинг иссиқлик ўтказувчанлик хоссаси
яхшиланганлиги туфайли 10 А гача токда диод қизиб кетмайди, тескари
токлар ҳарорат таъсирига анча чидамлироқ ва
р-п
-ўтиш тешилиши қайтар
табиатлидир.
Юқори вольтли
p
-n-n
-
тузилмали кучланиш чеклагичларида
п
-тип
кремнийга бор ва фосфор диффузиялаб олинган, тешилиш кучланиши лавина
табиатли бўлиб, талабдаги тешилиш кучланишини, база соҳаси қаршилигини
танлаб ёки кичик вольтли ва юқори вольтли кучланиш чеклагичларини
комбинациялаш орқали, уларни параллель улаш билан ҳосил қилиш мумкин.
Учинчи боб
қувватли диод параметрларини ўрганишнинг янги
усуллари ва радиоэлектрон аппаратураларни муҳофаза қилиш қурилмаларига
бағишланган. Диод тузилмалари кучланиш чеклагичи самарадорлигини
аниқлаш усулининг тавсифи, кучланиш чеклагичлари параметрларини ўлчаш
қурилмасининг такомиллашган техник тавсифи ҳамда таклиф этилган
майдоний диод ва ишлаб чиқилган радиоэлектрон аппаратурани муҳофаза
қилиш қурилмасининг ишлаш принципи келтирилган.
Киритилган
чекланиш
коэффициентини
импульсли
режимда
аниқланувчи
самарадорлик
коэффициенти
теш
чек
имп
чек
имп
U
U
К
/
.
.
билан
биргаликда ўрганиш асосида, берилган токларда талабга жавоб бермайдиган
кичик вольтли кучланиш чеклагичларини корпусга ўрнатишдан аввал
саралаш таклиф қилинган. Самарадорлик коэффициенти тескари ток
ўзгарганда кучланиш чеклагичида кучланишнинг ўзгариш даражасини
белгилайди
теш
чек
теш
D
чек
D
I
I
R
R
R
R
Z
ln
ln
)
/
ln(
)
/
ln(
max
.
max
,
(1)
яъни, берилган ток интервалида кучланиш ўзгариши қанчалик кам бўлса,
кучланиш чеклагичи шунча сифатлидир. Ҳақиқатан ҳам, кучланиш
чеклагичининг характеристик параметларини легирловчи киришмаларни
турига кўра, фосфор киришмали намуналарга нисбатан маргимуш
14
киришмали намуналар учун тешилиш кучланишининг четлашиши камроқ
бўлиб, каттароқ қувватли импульсга чидамлилиги 2-жадвалда кўрсатилган.
2-жадвал
Кучланиш чеклагичи характеристик параметрларини
легирланган киришма турига боғлиқлиги
U
теш
, В
U
теш
, В
Нам
уна
тарт
иби
1 мА
4 мА
Z
К
имп.чек
Р
и,
кВт
1 мА
4 мА
Z
К
имп.чек
Р
и,
кВт
7.5 вольтли кучланиш чеклагичи маргимуш
билан легирланган
8 вольтли кучланиш чеклагичи фосфор
билан легирланган
1
7.35
7.52
0.99
1.19
1.85
8.35
9.0
0.87
1.4
1.5
2
7.39
7.53
0.99
1.18
1.9
8.35
8.8
0.9
1.5
1.6
3
7.38
7,58
0.98
1.21
1.85
8.14
8.9
0.86
1.38
1.5
4
7.4
7.6
0.9
1.18
1.85
7.7
8.7
0.84
1.42
1.6
5
7.44
7.62
0.99
1.24
1.85
7.9
8.6
0.86
1.39
1.6
6
7.4
7.65
0.99
1.22
1.78
8
8.8
0.85
1.4
1.58
7
7.6
7.75
0.98
1.22
1.8
8.2
8.9
0.87
1.38
1.5
Таъкидлаш жоизки, қувватли кучланиш чеклагичларининг параметр-
лари маълум бўлган бевосита усулга нисбатан кичик хатоликка эга бўлган
такомиллашган икки генераторли усул билан ўлчанган. Бевосита ўлчаш
усули эса, хатолиги абсолют қийматининг ток зичлигига боғлиқлиги
туфайли, талаб этиладиган хатоликни таъминлай олмайди. Икки генераторли
усул кучланиш чеклагичининг математик моделига асосланган:
U
чек
=U
теш
+r
d
·I
max
,
(2)
бу ерда
r
d
–тешилиш соҳасининг дифференциал қаршилиги.
Барча чеклагич диодлар учун, чекланиш кучланишининг ўзгарувчи
ташкил этувчиси 20
% U
чек
қийматдан ошмаслиги туфайли, ўлчашнинг таклиф
этилган усулида
U
чек
доимий тескари тешилиш кучланиши
U
теш
ва кичик
импульс ташкил этувчиси кучланишни
U
^
= r
d
·I
max
ни ўлчаш билан
алмаштирилади.
U
теш
-тешилиш кучланишини доимий ток вольтметри
ёрдамида
(хатолиги 1% дан ортиқ бўлмаган асбоб) аниқланади. Ток манбаи
БП1
I
max
максимал импульсли ток ва чиқиш кучланишни таъминлайди
max
0
max
0
1
)
(
5
1
)
(
)
(
I
R
R
U
I
R
R
U
U
U
ўлчан
чек
ўлчан
теш
чек
БП
(3)
Ток манбаидаги зарур бўлган қувват
ΔP
БП
=
0.8
U
чек
·I
max
бевосита ўлчаш
усулидаги ток манбидагидан кам. БП2 блок доимий тескари кучланиш ва
тешилиш
U
БП2
=U
проб
кучланишини 2% дан ошмаган хатоликда ўлчайди ва
доимий
кучланиш вольтметри (
V
П
)
δ
VП
=1% билан назорат қилиб турилади.
Натижада янги усул билан ўлчашдаги умумий кучланишни ўлчаш хатолиги
%
2
гача қадар камаяди.
Ишлаб чиқилган кучланиш чеклагичининг қўлланиш соҳаларидан бири
‒ бу муҳофазаланаётган занжир киришида белгиланган кучланишни
таъминлашдир. Бироқ, мумкин бўлган тешилиш кучланиши ортиб кетганида
15
кучланиш чеклагичи, қайтмас тешилиш туфайли ишдан чиқиши мумкин.
Шунинг учун уни ҳимоялашга белгиланган чекланган токни таъминловчи
ток чеклагичларига зарурият туғилади. Бу заруриятлар муҳофаза модули ва
ток чеклагичлари ёрдамида қониқтирилиши мумкин. Илк бор яратилган
радиоэлектрон аппаратура муҳофаза модули турли техника (телевизор,
компьютер
ва б.)лар ишдан чиқиши ва унинг таркибига кирувчи кучланиш
чеклагичини бузилишидан сақлайди.
Радиоэлектрон аппаратура иш-
лаб чиқилган муҳофаза модулига
симистор занжирда кучланиш кес-
кин ўзгарганида ёнадиган ёруғлик
диодлари орқали уланади (2-расм).
Унинг ишлаш принципи шундаки,
светодиод ёруғлиги икки барьерли
фотодиодга тушади, фотодиоднинг
фототоки симисторнинг ёпилишига
сабаб бўлади ва радиоэлектрон
аппаратура кучланиш манбаини
узади. Импульс тугагач, аппарату-
ра яна манбага уланади.
2-расм. Радиоэлектрон
аппаратурани муҳофаза қилиш
модули
Илк бор яратилган арсенид галлий асосидаги яримўтказгичли
майдоний диод ток характеристикасининг ўзига хос хусусияти шундаки,
кучланишнинг тўйиниш соҳасидан то тешилишигача бўлган кенг интервалда
ток қийматининг ўзгармаслиги унга ток стабилизатори хусусиятини беради.
Бу хусусият кичик вольтли кучланиш чеклагичида қайтмас тешилишни
олдини олади. Яратилган майдоний диоднинг ишлаш принципи майдоний
транзисторнинг ишлаш приципига ўхшаш, исток электроди затворга уланган.
Кучланиш чеклагичи кетма-кет уланган икки қутбли асбоб ҳисобланади. Ток
қиймати тўйиниш кучланишининг кенг интервалида ёруғлик нурланиши
билан бошқарилади.
Тўртинчи бобда
вақтли характеристикалар, стационар ҳолатда
иссиқлик узатиш жараёни, динамик ҳолатда импульсли қувватнинг ажралиш
ва ютилиши каби масалалар кўриб чиқилган.
Стационар режимдаги тешилишда кучланиш чеклагичида ҳажмий
заряддан контактлар томон тарқалаётган иссиқлик аксиал ташкил этувчиси
бўйлаб тарқалиши муносабати билан иссиқлик узатилиш жараёнини бир
ўлчамли модель билан тушунтирилиб, қуйидаги дифференциал тенглама
билан ифодаланади:
2
2
'
dV
t
dP
dx
T
d
dt
dT
c
v
(4)
бу ерда
λ
– солиштирма иссиқлик ўтказувчанлиги;
с
v
– солиштирма ис-
сиқлик сиғими;
'
– модда зичлиги;
P(t)
– қувват;
V
– текширилаётган соҳа
ҳажми.
16
Чегеравий қийматларда
корпус
Т
D
Т
)
2
/
(
р-п
-ўтиш ҳарорати иссиқлик
узатиш юзасига эмас, балки унинг массасига боғлиқ:
'
C
t
R
Р
Т
имп
ис
,
(5)
бу ерда
имп
t
– импульс узунлиги;
'
C
– корпуснинг иссиқлик сиғими,
ис
R
–
иссиқлик қаршилиги.
Кучланиш
чеклагичига
кескин
ўсувчи
тескари
ток
импульси
берилганида чеклагичдан сиғимий ток ўтади ва кучланиш тешилишга
етганида у уланади. Унинг тўлиқ уланишига зарур бўлган вақт қуйидаги
ифодадан аниқланади:
e
B
n
p
s
улан
t
j
N
qW
j
E
t
2
max
0
(6)
Бу уланиш вақти
p-n-
ўтишнинг барьер сиғимини зарядланиш вақтидан
j
E
jS
W
E
W
S
I
U
U
C
t
s
n
p
n
p
n
p
n
p
s
теш
V
RC
max
0
max
0
max
1
2
(7)
ва зарбий тўлқин тарқалиш вақтидан (
тарк
зарб
t
.
) ҳамда уларга қўшилган
энергиянинг релаксация вақтидан иборат,
сек
t
e
12
10
~
j
N
qW
W
t
B
n
p
тарк
зарб
n
p
тарк
зарб
2
2
.
.
(8)
бу ерда
тарк
зарб
.
‒ зарбий тўлқин тарқалиш тезлиги;
B
N
‒ ток ташувчилар
концентрацияси;
n
p
W
‒
p-n
-ўтиш қалинлиги;
j
‒ ток зичлиги.
Стандарт импульс берилганида кучланиш чеклагичи берилган қувват
ва уланиш вақтига боғлиқ иссиқлик энергияси ажратиб уланади.
улан
улан
улан
W
q
IR
t
R
I
t
P
Q
0
0
2
2
1
2
2
(9)
Шу пайтда камбағаллашган соҳада ажралаётган иссиқлик энергияси
(
W
Q
):
W
v
ext
W
W
c
T
T
Q
V
0
.
(10)
Ҳароратнинг ортиши солиштирма иссиқлик сиғими, яримўтказгич зичлиги ва
камбағаллашган соҳа ҳажмига (
W
V
) пропорционал
p-n
-ўтишнинг камбағал-
лашган соҳа ҳарорати диод уланганидан сўнг ток, ўтиш қаршилиги ва заряд
миқдорининг кўпайтмасини камбағаллашган соҳа иссиқлик сиғими
нисбатига тенг.
17
W
W
T
улан
T
улан
W
v
улан
атроф
W
C
IRq
C
t
R
I
V
Rt
I
T
T
2
2
с
2
0
2
2
(11)
Кучланиш чеклагичида ҳосил бўлган ҳарорат потенциали (
р
Т
)
қуйидаги ифодадан аниқланади:
имп
t
улан
имп
атроф
р
e
I
q
T
T
T
2
max
max
2
(12)
Ҳарорат ортишининг чизиқли қисмида ҳарорат потенциали қуйидаги
ифода билан аниқланади:
t
C
q
R
C
q
R
t
I
T
T
T
Tw
w
Tw
w
i
2
2
)
(
0
0
0
(13)
Уланиш жараёни тугагач,
p-n
-ўтишнинг камбағаллашган соҳаси
ҳарорати максимал қийматга эришади ва қуйидаги формула билан
аниқланади:
2
0
0
Tw
w
m
w
m
C
q
R
I
T
T
T
(14)
Диоднинг уланиш режимида
p-n
-ўтишнинг ҳарорати ток камайишига
нисбатан тезроқ пасаяди, шунинг учун
p-n
-ўтиш ҳарорат потенциалининг
генератори каби бўлади.
Динамик режимда иссиқлик энергиясини ифодаловчи (9) формулага
асосан, иссиқлик оқими максимал токнинг иссиқлик қаршилигига
кўпайтмасининг уланиш вақтига нисбати билан аниқланади:
улан
t
Rt
I
dt
dQ
Ф
2
max
1
(15)
ва вақт бўйича чизиқлик ўзгариб,
t=t
улан
вақтда максимал қийматга эришади:
P
R
I
Ф
2
max
max
.
(16)
Импульснинг камайиш соҳасида токнинг камайишини экспоненциал
деб қабул қилиб
имп
t
e
I
I
max
ва иссиқлик энергиясини
имп
t
e
RtI
Q
2
2
max
га тенг
деб, иссиқлик оқими учун қуйидагига эга бўламиз:
имп
t
t
имп
t
t
e
RI
e
RI
t
e
RI
dt
dQ
Ф
имп
имп
имп
2
1
2
2
2
max
2
2
max
2
2
max
2
ёки
имп
имп
t
t
Pe
e
RI
Ф
2
2
2
max
2
.
(17)
Иссиқлик жараёнининг иссиқлик доимийси
1
Tw
Tw
T
C
R
(
2
1
теш
Tw
улан
Tw
U
C
Rq
R
)
18
билан содир бўлиши туфайли, иссиқлик оқими қуйидаги ифодадан
аниқланади:
2
2
T
t
Рe
Ф
.
(18)
Шундай қилиб, кучланиш чеклагичи
p-n
-ўтишининг камбағаллашган
соҳаси стандарт импульс таъсирида иссиқлик оқими генератори
сифатида
қаралиши мумкин. Иссиқлик оқими унинг чегараларидан ўтаётган импульс
фронти ва уланганда берилаётган қувватига тенг максимал қийматга
эришади.
Бешинчи бобда
юқори частотали тўғрилагич диодлар ва кучланиш
чеклагичларининг функционал характеристикаларига радиацион нурланиш-
нинг таъсирини ўрганиш натижалари келтирилган. Юқори частотали планар
ва диффузион диодларга радиацион нурланиш таъсир эттирилган. Диодлар-
нинг геометрик кесимлари 3‒4-расмларда келтирилган.
а) тепадан кўриниши
б) диод структурасининг кўндаланг кесими
3-расм. Юқори частотали планар диоднинг геометрик кесими
Тадқиқ этиш учун танланган намуналар кучланиш тушишининг минимал
қийматга эгалиги билан фарқланади. Тўғри ва тескари ток, тескари
кучланиш, шунингдек, тескари токни ўз қийматига қайтиш вақти бўйича (
U
F
,
I
F
,
I
R
,
U
R
,
t
rr
), бу ерда
U
F
=(0.92÷0.93) В (
I
F
= 1A да,
I
R
= (15±2) нA,
U
R
= 200 В);
t
rr
≤ (150±10) 10
-9
сек (
I
F
/I
R
= 1 да ва ҳисоб даражаси 0.1 А).
Намуналарни гамма-квантлар би-
лан нурлаш ЎзР ФА ЯФИ гамма
қурилмасида, электронлар билан
эса ОАЖдаги У-003 «FOTON»
электрон тезлатгичда ўтказилган.
Диодларни нурлантиришда гам-
ма-квантнинг ўртача энергияси
гамма қурилмада Co
60
(~1.25
MэВ) нинг гамма нурлашига мос
келиб, интенсивлиги ~10
12
см
-
2
сек
-1
.
4-расм. Юқори частотали диффузияли
диоднинг геометрик кесими
Диодлар нурлантирилган гамма-квант оқимининг (
Ф
γ
) аниқлиги 5 %
ни ташкил этади. Диодлар нурлантирилган электронларнинг ўртача энергия-
19
си 4÷4.5 MэВни ташкил этган, интенсивлиги эса ~ (2.5÷3) 10
11
см
-2
сек
-1
.
Электронлар флюенсининг (
Ф
е
) аниқлиги ~15% ни ташкил этган.
Юқори частотали планар тузилмалар учун Δ(1/
t
p
) катталик гамма-
квантлар оқимига (
Ф
γ
) тўғри пропорционал ва электронлар флюенси (
Ф
е
)
Δ(1/
p
)
γ
=
Kt
γ
·Ф
γ
ва Δ(1/
p
)
e
=
Kt
e
·Ф
е
. Шунга ўхшаш боғланиш, шикастланиш
доимийсининг нурланиш дозаси билан ўзгариши Шокли-Рид рекомбинация
назариясига кўра, ўтказувчанлик соҳасидан 0.17 эВ масофада жойлашган А-
марказ билан боғлиқ. Тажрибалар асосида ҳисобланган шикастланиш
доимийсининг қийматлари
Kt
γ
= 3.35·10
-11
см
-2
сек
-1
ва
Kt
e
= 2.5·10
-8
см
-2
сек
-1
адабиётларда келтирилган қийматларга жуда яқин.
Тажрибада аниқланган тескари
I
r01γ
ва
I
r01е
токларнинг қийматлари
3.7∙10
-8
А дан 5∙10
-8
А гача бўлиб, ҳисобланган максимал қийматлар
A
I
rs
9
max
10
50
га яқин. Тескари токнинг (15÷20% га ортиши) гамма
нурланиш дозаси
Ф
γ
= (2÷14)·10
17
см
-2
ва электронлар оқими
Ф
e
=
(2.5÷20)·10
14
e/см
2
билан заиф боғланганлигини (15%÷20%га ортишини)
Е
g
ўтказувчанлик соҳасидан
E
m
= - 0.4 eV масофада жойлашган марказ ҳосил
бўлгани билан боғлаш мумкин. Гамма-квантлар Cо
60
билан нурлангандан
сўнг тескари токнинг қиймати, 4÷4.5 MэВ энергияли электронлар билан
нурланганларга нисбатан 15%÷20% кам, яъни гамма-нурланишнинг электрон
нурланишга нисбатан таъсири оптималроқ эканлиги аниқланган.
Кучланиш тушишининг тескари қаршиликнинг қайта тикланиш
вақтига боғлиқлиги
U
F
=f
(
t
rr
) иккала тур нурланиш учун мос келади, яъни
иккала тур нурланиш (гамма-квантлар билан Cо
60
ва 4÷4.5 MэВ энергияли
электронлар билан
t
rr
ва
U
F
.
ларнинг ўзаро муносабатлари нуқтаи назардан)
бир хил. Нурланиш дозаси ортган сари кучланиш тушиши 1.2В гача ортади.
Тескари қаршиликнинг қайта тикланиш вақти эса 150 нс дан 10 нс гача
камаяди ва юқори частотали диоднинг тезкорлиги ошади. Гамма ва электрон
нурланиш таъсири берилаётган юқори частотали диффузион диодлар
текширилган параметрлар бўйича минимал фарққа эга.
Тўғри токи
I
F
=10A бўлганда тўғри кучланишнинг тушуви
U
F
=0.75÷0.8В тескари кучла-нишлар
U
R
= 100 В ва 200 В бўлганда тескари
токлар
I
R
~ 0.5÷0.7 мкА ва 0.7÷1.0 мкА тенг. Тўғри ток
I
F
= 1A,
I
F
/
I
R
= 1
бўлганида, токнинг 0.1 А га тенг бўлгандаги участкадан ҳисоб-ланган,
тескари қаршиликнинг қайта тикланиш вақти
τ
rr
≤ 2.8±0.2∙10
-6
га тенг.
Δ(1/
t
p
) нинг
Ф
γ
ва
Ф
е
ларга боғлиқлиги тўйиниш табиатига эга эканлиги
нурланиш оқими ортиши билан шикастланиш доимийсининг гамма-квантлар
ҳамда электронларнинг нурланиш дозаси ортиши билан камайишини
кўрсатади. Кучланиш тушуви нурланиш дозасига чизиғий боғланишда бўлиб,
қуйидаги ифодадан аниқланади:
)
)
0
(
)
1
(
1
)
0
(
)
1
(
2
1
(
2
/
0
0
L
d
n
p
бro
б
e
p
b
bn
p
b
bn
L
d
L
U
U
,
(19)
20
бу ерда
U
бro
= (
I
f
·ρ·б·d
)/
S
pn
.
Бу ифодада
p-n
-ўтишдаги киришмалар тақсимоти ҳисобга олинган.
Δp
(x) ≈ Δ
p
(0)∙exp(-x/
L
p
)
(20)
ва
Δ
p
(x) ≈ Δ
p
(
d
)∙exp[(x-
d
)/
L
p
].
(21)
Тажрибаларга кўра, кучланиш тушувининг нурланиш дозасига
боғлиқлиги гамма нурланиш учун
Ф
γ
= 1.5·10
18
см
-2
гача ва электронлар учун
Ф
e
= 9·10
14
e/см
2
га қадар чизиқли тарзда 0.77 дан 0.9 В гача ортади ва
ҳисобланган қийматлар билан қониқарли даражада мос тушади.
Юқори частотали диффузион диодлар тескари токининг доза билан
боғлиқлиги гамма ва электрон нурланишлар учун 1.2∙10
-18
мкА∙см
2
ва 1.6∙10
-15
мкА∙см
2
га тенг бўлган радиацион ўзгариш коэффициентлари билан чизиқли
ўзгаради ва қуйида келтирилган боғлиқлик билан ифодаланади:
I
r
=K
Irγ(e)
·Ф
γ(e)
+ I
ro
(22)
бу ерда
I
ro
– нурланишга қадар тескари ток.
Тескари токнинг радиацион ўзгариш коэффициенти қиймати қуйидаги
ифода ёрдамида ҳисобланган ва 3- жадвалда келтирилган:
dФ
dM
V
n
n
n
n
V
V
n
n
K
p
p
n
n
p
p
t
0
1
0
0
/
/
)
/
1
(
)
/
1
(
(23)
3-жадвал
Тескари токнинг радиацион ўзгариш коэффициентлари
K
Irγ
∙10
18
, мкА∙см
2
K
Ire
∙10
15
, мкА∙см
2
N
o
=5∙10
17
см
-3
N
o
=1∙10
18
см
-3
Эксперимен-
тал қийматлар
N
o
=5∙10
17
см
-3
N
o
=1∙10
18
см
-3
Эксперимен-
тал қийматлар
1.4
0.7
1.2
1.7
0.4
1.6
Жадвалдан кўриниб турибдики, тескари токнинг радиацион ўзгариш
коэффициентининг экспериментал қиймати кислород концентрацияси билан
аниқланиши мумкин бўлган диапазонда жойлашган бўлиб, диффузион
диодларнинг тескари ток қийматларини, уларга гамма-квант оқимлари (
Ф
γ
)
ва электрон флюенс (
Ф
е
) таъсиридан сўнг, Е-центр шакллантиради.
Шундай қилиб, қувватли кремний диффузион диодларнинг тескари
қаршилигининг қайта тикланиш вақти, тўғри кучланиш тушуви ва тескари
токларига гамма ва электрон нурлари таъсири ўзаро эквивалентлиги
тажрибада кўрсатилган.
Нейтронлар флюенси (3∙10
15
см
-2
гача) таъсирида бўлган кучланиш
чеклагичли диодларнинг характеристик параметрларини ўрганиш асосида
ноасосий заряд ташувчиларнинг яшаш даври, ҳажмий заряд қатлам
қалинлиги ва уларни оптималлаштириш йўллари ҳамда ўзига хос
хусусиятлари аниқланган. Шунингдек
,
диффузион технология билан олинган
21
р
+
рn
+
-
тузилмали 50 вольтли ва 200 вольтли бўлган кучланиш чеклагичлари
ўрганилган. Намуналар тадқиқот реактори ИИН-3Мда нурлантирилган.
Энергияси E>3 МэВ бўлган нейтронлар флюенси S
32
олтингугурт индикатори
билан баҳоланган ва кейинчалик E ≥ 100 кэВ энергияли нейтронлар
флюенсига келтирилган (ИИН-3М реакторнинг маълум спектри бўйича).
Нейтронларнинг ўртача энергияси ~ 1.5 MэВни ташкил этади. Дозиметрия
хатолиги ± 20%. Радиацион нурлантириш ва юқорида келтирилган
параметрларни ўлчаш ишлари ҳар бир тури 20 кучланиш чеклагичидан
ташкил топган танламаларда ўтказилган. Яъни биринчи турда 50 вольтли ва
иккинчи турда 200 вольтлилар. Танланмалар 5÷6 қисмга бўлиниб (ҳар бир
қисмда 3÷4 кучланиш чеклагичи), ҳар бир қисм икки этапда нурлантирилган
(нейтронларнинг 2-оқимида) ва ҳар бир нурлантиришдан сўнг кучланиш
чеклагичларининг параметрлари ўлчанган.
Диффузия усулида олинган 50 вольтли ва 200 вольтли кучланиш
чеклагичларига нейтронлар флюенсининг таъсирини ўрганиш натижасида
ҳар иккала тур кучланиш чеклагичларида
U
теш
(
Ф
)/
U
теш
(0) ва
U
чек
(
Ф
)/
U
чек
(0)
нисбатларнинг нейтронлар флюенси билан экспоненциал боғланишда
эканлиги топилган:
U
теш
(
Ф
)=
U
теш
(0)exp(
K
1
Ф
)
(24)
U
чек
(
Ф
)=
U
чек
(0)exp(
K
2
Ф
).
(25)
Уларда экспонента даражасидаги
К
1
коэффициент қиймати тешилиш
кучланиши учун ўзаро яқин, кучланиш чекловчи коэффициенти
К
2
1.5
баравардан кўпроқ фарқ қилади (4-жадвал). Коэффициентлар қийматидаги
бундай фарқнинг сабабини аниқлаш учун, тешилиш кучланишининг
концентрация градиентига, ҳажмий заряд қатлам қалинлигининг нейтронлар
флюенсига боғлиқлиги, вольтфарад характеристикалардан концентрация
градиенти ва ҳажмий зарядлар қалинлиги аниқланган.
4-жадвал
К
1
ва К
2
коэффициентлар қиймати
К
1
,
см
2
/n
К
2,
см
2
/n
U
чек
= 50 В
U
чек
=200 В
U
чек
= 50 В
U
чек
=200 В
6.3·10
-17
7.0·10
-17
7.1·10
-17
1.1·10
-16
Нейтронларнинг турли флюенслари учун сиғим билан тескари
кучланиш киришмалар тақсимоти чизиқли
бўлган
p-n
-ўтишга хос кубли
боғланиш билан ифодаланади
С
-3
=
[12(
U+U
экстр
)]/[
qa
(
εε
0
)
2
(
S
p-n
)
3
],
(26)
бу ерда «
а
» концентрация градиенти бўлиб,
N(x)=a·х
тенглама билан
аниқланади ва нейтрон флюенси дозаси билан экспонециал боғланишда
а
=
а
(
Ф
=0)·exp(-
ВФ
).
(27)
22
Вольтфарад характеристикалар асосида ҳисобланган кучланиш чекла-
гичларнинг солиштирма қаршиликларидаги катта фарқдан қатъи назар,
иккала тур кучланиш чеклагичлари учун кучланиш ва экспонента даражаси
В
нинг қиймати бир-бирига яқин 2.6·10
-16
см
2
ва 3.8·10
-16
см
2
, улар ўртача
қийматдан (3.2·10
-16
см
2
) 30 % дан ортиқ фарқ қилмайди.
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0)
градиентлар
нисбатининг
нейтронлар
флюенси
Ф
га
боғлиқлиги
экспериментал (нуқталар) ва ҳисобланган
(В
=3.2·10
-16
см
2
) учун exp(-
В·Ф
)
эгри чизиқ 5-расмда келтирилганидек, ўзаро мос тушади.
1-50 вольтли кучланиш чеклагичи;
2-200 вольтли кучланиш чеклагичи;
3- узлуксиз чизиқ ҳисоблаш натижаси
5-расм. Градиент
концентрациясининг
нурлантириш дозасига
боғлиқлиги
Тешилиш кучланишининг нейтрон флюенси (
Ф
) билан экспоненциал
боғланиши
)
10
6
.
6
exp(
)
0
(
/
)
(
17
Ф
Ф
U
Ф
U
теш
теш
(28)
билан эффектив концентрация градиенти билан нейтронлар флюенсининг
экспоненциал боғланишини таққослаш натижасида
p-n
-ўтиш тузилмасида
доза таъсиригача
а
нинг қийматидан қатъи назар, бу боғланишнинг
универсал эканлигини топамиз:
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0)=exp(-3.2·10
-16
·
Ф
)
(29)
Чекланиш кучланиши ва тешилиш кучланишининг концентрация градиенти
билан дозали ўзаро боғланиши нейтронлар флюенси билан чекланиш кучла-
нишининг тўғри чизиқли боғланишида
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0) нисбати экспериментал
нуқталарининг нейтрон флюенси
Ф
билан боғлиқлиги ва
В
=3.2·10
-16
см
2
да
ҳисобланган exp(-
В·Ф
) эгри чизиғи қониқарли тарзда мос тушган. Куч-
ланишни чеклаш режимида дифференциал қаршиликлар жуда кичик ва
кучланиш тушуви 100 мВ дан кам, шунинг учун чекланиш кучланиши
шаклланишида
U
чек
=
U
теш
+
I
чек
R
кетма-кет
(30)
базанинг кетма-кет қаршилиги муҳим роль ўйнайди
R
кетма-кет
=
R
база
+
R
уч.ўтиш
(31)
Ўз ўрнида
R
база
=
ρ
б
[(
d
мб
-W
)/
S
],
(32)
23
бу ерда
ρ
б
– нейтрал базанинг солиштирма қаршилиги;
d
мб
–
металлургик
p-n
-ўтишдан то
nn
+
контактгача бўлган масофа.
Электр майдони унча катта бўлмаган ҳажмий зарядлар соҳасининг
қарши-лиги қуйидаги муносабатдан аниқланади:
R
уч.ўтиш
=(
W
-
W
m
)
2
/(2·
εε
0
·S·V
тўйин
),
(33)
бу ерда
W
m
– зарбли ионланиш содир бўладиган ҳажмий зарядлар
сохасининг кенглиги,
тўйин
V
– тўйиниш кучланиши.
Бунда
R
.база
(
Ф
) боғланишни ҳисоблаш учун
ρ
б
(
Ф
) ва
W
(
Ф
) боғланишни
билиш зарур. Қатлам қалинлигининг флюенсга боғлиқлигини текис
p-n
-ўтиш
кенглигини ҳажмий заряд билан боғлиқлигининг классик ифодасидан
фойдаланган ҳолда ҳисоблаш мумкин
W
(
Ф
,
U
теш
)=[(12
εε
0
·U
теш
)/(
q·a
)]
1/3
. (34)
Тешилиш кучланишини ҳисоблаш ҳажмий заряд соҳасининг қалинлиги
ва нейтрон нурланиш таъсирида заряд ташувчиларнинг узоқлашиш
коэффициенти орқали амалга оширилади:
K
ρ
= 1/
k
n
n
0
(
Ф
=0)
0.77
.
(35)
Узоқлашиш коэффициенти қийматлари
n
- тип кремний учун ‒
k
n
=851,
p
-тип кремний учун ‒
k
р
=444 ни ташкил этади. Тешилиш ва чекловчи
кучланиш
ҳажмий заряд қатлами қалинлиги
W
m
ва солиштирма
қаршиликнинг ўзгариш домийлари
К
ρ
ҳисобланган қийматлари 5-жадвалда
келтирилган.
5-жадвал
Турли кучланиш чеклагичлари учун характеристик
параметрларнинг ҳисобланган қийматлари
КЧ типи
U
теш
, В
U
чек
, В
W,
10
-4
см
W
m
, 10
-4
см
K
ρ,
10-
16
см
2
КЧ 50 В
48.9
50.2
2.67·
1.09·
3.8·
КЧ 200 В
224.4
229.8
0.17·
8.4·
0.154
Нейтрон нурланишнинг чизиқли
p-n
-ўтиш структурасига таъсирини ўрганиш
нуқтаи назаридан, нурланиш натижасида
p-n
-ўтиш соҳаси яқинида ҳосил
бўладиган
i
-соҳа ўлчами ўзига хос аҳамият касб этади. Концентрация
градиенти билан нейтрон дозаси
а
(
Ф
) орасидаги боғланишнинг эмпирик
ифодаси (27) формулада келтирилган.
i
-соҳа ўлчамини қуйидаги муносабатдан аниқлаш мумкин:
W
i
=
W
c
W
a
;
W
c
(
Ф
,
U
) =
εε
0
∙
S
p-n
/
C
p-n
(
Ф
,
U
);
W
a
(
Ф
,
U
) =[12∙
εε
0
∙(
U+U
d
)]/
q·a
(
Ф
)}
1/3
. (36)
Ҳажмий зарядларнинг нейтронлар флюенсига боғлиқ ўзгариши қуйидаги
формула орқали ҳисобланган ва 6-расмда келтирилган.
W
i
(
Ф
,
U
=0)
= [0,053/
a
(
Ф
=0)
0.94
]∙
Ф.
(37)
Шундай қилиб, қатлам қалинлигининг нейтрон флюенси ва кучланиш-
га боғлиқлигини баҳолаш учун ифода аниқланган. Бу эса
р
+
nn
+
-
тузилманинг
24
а)
50 вольтли кучланиш чеклагичи
б) 200 вольтли кучланиш чеклагичи
6-расм. W
i
= F(Ф,U=0) нинг ҳисобли боғланишлари
ҳажмий заряд соҳасида юз бериши мумкин бўлган ўзгаришлар тўғрисида
маълумот олиш имконини беради. Бунда базада киришма концентрацияси
градиенти ўзгариши билан бир қаторда, диод тузилманинг тезкорлигини
белгиловчи ноасосий заряд ташувчиларнинг яшаш даври ҳам ўзгаради. Яшаш
даври қанча қисқа бўлса, шунча яхши. Иккала турдаги (50
В
ва 200В)
кучланиш чеклагичлари учун ноасосий заряд ташувчилари яшаш даврининг
нурланиш дозасига боғлиқлиги рекомбинация маркази таъсирига боғлиқ
бўлиб, минимал қийматга эга.
7-расмга кўра, юқорида башорат қилинганидек,
Ф
=1/b формула билан
аниқланадиган
τ
(
Ф
)
боғланишнинг минимум нуқтаси ҳақиқатан ҳам мавжуд.
а) 50 вольтли кучланиш чеклагичи
б) 200 вольтли кучланиш чеклагичи
1- ҳисоб натижаси; 2- экспериментал натижалар
7-расм. Кучланиш чеклагичлар учун τ(Ф) боғланишлари
Бунда
K
τ
(
Ф
) боғланишдаги минимум нуқтаси экспоненциал кўпайтма
билан аниқланади. Фикримизча, бу ҳолат яшаш даврини ҳисоблаш учун
(1/
τ
(0)
ҳисобга
олмаганда)
Мессенджер
моделидан
фойдаланиш
мумкинлигидан далолат беради.
)
exp(
)
(
Ф
b
А
Ф
K
(38)
ва
)
(
)
0
(
/
1
)
(
/
1
Ф
K
Ф
(39)
яъни
)
/(
)
exp(
)
(
Ф
А
Ф
b
Ф
.
(40)
Кўриниб турибдики, (40) ифода
25
b
Ф
/
1
(41)
нуқтада экстремум (минимум) га эга.
Шуни таъкидлаш жоизки, ноасосий заряд ташувчилар яшаш даврининг
нурланиш дозасига боғланиш эгри чизиғида қайрилиш пайдо бўлиши
нейтрон нурлантириш жараёнида рекомбинацион марказларнинг пайдо
бўлиш қонуниятида ўзгаришлар содир бўлганидан далолат беради. Яъни
чизиқли боғланишдан экспоненциал боғланишга ўтиш содир бўлади.
Текширишлар натижасига кўра, бошланғич тешилиш кучланиши
қандай бўлишидан қатъи назар, нурланиш дозаси ортиши билан тешилиш
кучланиши ортади. Бундай ҳолат тешилиш кучланишини зарурий номинал
кучланишга етказиб олишга асос бўлади ва тешилиш кучланишини
бошқаришдан фойдаланиб, ишлаб чиқарилаётган кучланиш чеклагичларни
номенклатурали кучланишлар 100 вольтли ва 200 вольтлига мос равишга
келтириб, яхшилашга олиб келади.
Табиийки, кучланиш чеклагичлари учун номинал кучланишдан фарқ
қилувчи (100В ва 200В) тешилиш кучланишининг флюенсга боғланишини
аниқлаш лозим. Жумладан, 100 вольтли кучланиш чеклагичлари учун
тешилиш кучланишлари 95 В, 96 В, 97 В, 98 В, 99 В бўлган намуналар ва ҳар
бирида 3÷4 намунадан ташкил топган 5 та гуруҳ ташкил қилинган. Шундай
аналогик намуналар гуруҳи 200 вольтли кучланиш чеклагичлари учун ҳам
ташкил қилинган.
8-расмда бу намуналар учун тешилиш кучланишини нейтронлар
флюенсига боғлиқлик графиклари келтирилган. Уларга асосан тешилиш
кучланиши номинал қийматдан қанча катта бўлса, намунани номинал
кучланишга етказиш учун шунча катта нейтронлар флюенси талаб этилади.
9 5
9 6
9 7
9 8
9 9
1 0 0
0 ,5
1 ,0
1 ,5
2 ,0
2 ,5
3 ,0
Ф · 1 0
1 4
, Н /с м
2
2
1
U
п р о б
, В
а) 100 вольтли кучланиш чеклагичлари
1 8 0
1 8 5
1 9 0
1 9 5
2 0 0
0
4
8
1 2
1 6
2 0
2
1
Ф · 1 0
1 4
, Н /с м
2
U
п р о б
, В
б) 200 вольтли кучланиш чеклагичлари
1‒ берилган тешилиш кучланишига тегишли
кучланиш чеклагичлар
ни нурлантириш
дозаси; 2‒
кучланиш чеклагичлар
ни нурлантиргандан сўнгги тешилиш кучланишлари
8-расм. Кучланиш чеклагичларининг оптимал нурлантириш
дозасининг бошланғич тешилиш кучланишига боғлиқлиги
Бошқача қилиб айтганда, бу ерда вольтли кучланиш чеклагичларини
номинал кучланишга келтирувчи нейтронлар флюенслари қийматлари билан
боғлиқлиги келтирилган. Ушбу
тешилиш кучланишларини нурланиш дозаси-
га боғлиқлигини керакли тешилиш кучланишига келтирувчи калибровка чи-
26
зиғи сифатида фойдаланиш мумкин.
Шундай қилиб, кремний асосидаги кучланиш чеклагичларини ва юқори
частотали диодларнинг технологиясини модернизация қилиш ва параметр-
ларини радиация таъсирида оптималлаштириш уларнинг эксплуатацион
параметрлари технологик фарқланишини, статистик қувват йўқолишини
камайтиришга ва яроқли диодлар чиқишини ошишига олиб келади.
ХУЛОСА
1. Кичик дифференциал қаршилик ва кам фарқли тешилиш
кучланишини таъминловчи кичик вольтли кучланиш чеклагичини олиш
технологияси маргимушни юқори концентрацияли манбадан ампулали
диффузия қилиш ёрдамида ишлаб чиқилган.
2. Кремнийли қувватли диодларга юқори адгезияли ва иссиқликни
самарали тарқатиш қобилияти билан фарқланадиган омик контакт олиш
усули ишлаб чиқилган. Бу усул
р-п
-ўтишли пластиналарнинг ҳар иккала
юзасига ванадий ва кумушнинг юпқа (0.1÷0.3 мкм) қатламларини сепишни ва
уларнинг кумушланган мисли иссиқлик компенсатори билан қотиштиришни
ўз ичига олади. Бундай контакт қувватли яримўтказгичли қуршаб олувчи
диодларда қўлланилади.
3. Тешилиш режимида кучланиш чеклагичлари қаршилигининг ток
билан боғлиқлигига асосланган илк бор киритилган «самарадорлик
коэффициенти» орқали уларни корпусга ўрнатишдан аввал саралаш усули
ишлаб чиқилган.
4. Кристалл ва иссиқлик компенсаторларининг оптимал ўлчамларини
ҳисоб-лаш ва жойлаштириш, шунингдек, ҳарорат потенциали генератори ва
иссиқлик оқими генератори сифатида номоён бўлиши хоссаларини
тушунтирувчи кучланиш чеклагичининг иссиқлик модели ишлаб чиқилган.
5. Чекланган кучланишни ўлчашнинг икки генераторли такомиллашган
усули ишлаб чиқилган, унинг ёрдамида тескари кучланиш ва генератор ҳосил
қилган токнинг импульс ташкил этувчисини ўлчаш таклиф қилинади.
Ўлчашнинг умумий хатолиги ~
%
2
бўлиб, маълум бўлган бир генераторли
усул хатолигидан уч марта кам.
6. Занжирда кучланиш ортиб кеганида истеъмолчини автоматик тарзда
уланиши ва узилишини таъминловчи, кучланиш чеклагичи асосида
радиоэлектрон аппаратураларнинг муҳофаза модули ишлаб чиқилган.
7. Юқори частотали тўғрилагич диодлар ва кучланиш чеклагич-
ларининг тешилиш кучланишини, ноасосий ток ташувчилари яшаш вақтини
ва тескари қаршиликнинг тикланиш вақтини, оптималлашни таъминловчи
радиацион технология ишлаб чиқилган.
8. Гамма ва электрон нурланишлари таъсирида бўлган юқори частотали
диодларда оптимал ўтиш характеристикаларини аниқлаб берувчи, тескари
ток ва тўғри кучланиш тушувини, ҳажмий заряд қалинлигини ҳисоблашнинг
муҳандислик услублари ишлаб чиқилган.
27
9. Қайтар тешилиши 14 В гача бўлган кичик вольтли кучланиш
чеклагичларини муҳофазалаш учун арсенид галлий асосида ток чекловчи
ишлаб чиқилган.
10. Кучланиш чеклагичларини ва юқори частотали диодларни олиш
технологияси, уларнинг функционал параметрларини текшириш усуллари
бўйича олинган натижалар ОАЖ «FOTON» ишлаб чиқаришида қўлланил-
моқда.
28
29
НАУЧНЫЙ СОВЕТ ПО ПРИСУЖДЕНИЮ УЧЕНОЙ СТЕПЕНИ
ДОКТОРА НАУК 16.07.2013.FM/T.12.01 при ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКОМ
ИНСТИТУТЕ НАУЧНО-ПРОИЗВОДСТВЕННОГО ОБЪЕДИНЕНИЯ
«ФИЗИКА-СОЛНЦЕ», ИНСТИТУТЕ ИОННО-ПЛАЗМЕННЫХ И
ЛАЗЕРНЫХ ТЕХНОЛОГИЙ И САМАРКАНДСКОМ
ГОСУДАРСТВЕННОМ УНИВЕРСИТЕТЕ
____________________________________________________
НАУЧНО-ПРОИЗВОДСТВЕННОЕ ОБЪЕДИНЕНИЕ «ФИЗИКА-СОЛНЦЕ»
ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ
РАХМАТОВ АХМАД ЗАЙНИДИНОВИЧ
РАЗРАБОТКА ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИ-
КОВЫХ ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ И ОГРАНИЧИТЕЛЬНЫХ ДИОДОВ,
ОПТИМИЗАЦИЯ ИХ ПАРАМЕТРОВ ПРИ ТЕРМО- И
РАДИАЦИОННОМ ВОЗДЕЙСТВИИ
01.04.10 – Физика полупроводников
(технические науки)
АВТОРЕФЕРАТ ДОКТОРСКОЙ ДИССЕРТАЦИИ
Ташкент – 2014
30
Тема докторской диссертации зарегистрирована в Высшей аттестационной комиссии
при Кабинете Министров Республики Узбекистан, за номером
30.09.2014/В2014.5.Т 266
Докторская диссертация выполнена в Физико-техническом институте АН РУз и ОАО
«FOTON».
Полный текст докторской диссертации резмещен на веб-сайте Научного совета
16.07.2013.FM/T.12.01
при Физико-техническом институте, Институте ионно-плазменных и лазер-
ных технологий и Самаркандском государственном университете по адресу
kengash.fti.uz
Автореферат диссертации на трех языках (узбекский, русский, английский) размещен на
веб-странице научного совета по адресу
kengash.fti.uz
и Информационно-образовательном портале
“ZiyoNet” по адресу
www. ziyonet.uz
Научный консультант:
Каримов Абдулазиз Вахитович
доктор физико-математических наук, профессор
Официальные оппоненты
:
Улимов Виктор Николаевич
доктор технических наук, профессор
Касымахунова Анора Мамасадыковна
доктор технических наук, профессор
Тагаев Марат Баймуратович
доктор технических наук, профессор
Ведущая организация:
Ташкентский государственный технический университет
Защита состоится «____»_____________2014 г. в ____часов на заседании одноразового на-
учного совета по специальности 01.04.10 (технические науки) на основе научного совета
16.07.2013.FM/T.12.01
при Физико-техническом институте, Институте ионно-плазменных и лазер-
ных технологий и Самаркандском государственном университете по адресу: 100084, г.Ташкент,
ул. Бодомзор йули - 2б. Тел./Факс: (+99871) 235-42-91, e-mail:
lutp@uzsci.net
.
Докторская диссертация зарегистрирована в Информационно-ресурсном центре Физико-
технического института, за № 01, с которой можно ознакомиться в ИРЦ по адресу: 100084,
г.Ташкент, ул. Бодомзор йули - 2б. Тел./Факс: (+99871) 235-30-41.
Автореферат диссертации разослан «___»______________2014 года
(протокол рассылки ___от ____________2014 г.).
С.Л. Лутпуллаев
Председатель научного совета по присуждению
учёной степени доктора наук, д.ф.-м.н., профессор
М.Н. Турсунов
Учёный секретарь одноразового научного совета по присуждению
учёной степени доктора наук, д.т.н.
И.Г. Атабаев
Председатель научного семинара при Научном совете
по присуждению учёной степени доктора наук, д.ф.-м.н., профессор
31
АННОТАЦИЯ ДОКТОРСКОЙ ДИССЕРТАЦИИ
Актуальность и востребованность темы диссертации.
Согласно
постановления Президента Республики Узбекистан ПП-1442 «О приоритетах
развития промышленности республики Узбекистан в 2011 - 2015 годах» от 15
декабря 2010 года
повышение эффективности промышленного производства
является первостепенной задачей. В связи с этим
последовательное снижение
производственных затрат и себестоимости
полупроводниковых силовых дио-
дов (ограничители напряжения, высокочастотные выпрямительные диоды),
производимых ОАО «FOTON», предусматривает проведение целенаправлен-
ных работ по улучшению их параметров и надёжности, а также по оптимиза-
ции их технологии, что является важнейшей предпосылкой для повышения
конкурентоспособности выпускаемых приборов, а также сохранения сущест-
вующих и завоевания новых рынков сбыта.
В области защиты радиоэлектронной аппаратуры и предотвращения
выхода из строя электрических оборудований импульсными перенапряже-
ниями, поставленные учеными ведущих зарубежных стран США, Канады,
Голландии, Китая и Японии задачи разработки и исследования высоковольт-
ных ограничителей напряжения, а также стабилизирующих устройств на ос-
нове силовых диодов являются востребованными.
Эти силовые диоды широко применяются в устройствах преобразова-
ния электроэнергии, системах питания и управления технологическими про-
цессами. Для их изготовления используется диффузионная технология леги-
рования кремния примесями бора и фосфора, которая широко используется
для изготовления высоковольтных диодов. Однако применительно к низко-
вольтным ограничителям напряжения не позволяет получить низкие диффе-
ренциальные сопротивления, которое можно получить применением приме-
си, обеспечивающей резкое различие концентрации носителей на границе
р-
n
-перехода. Решение этой проблемы требует новых физических подходов,
позволяющих получить высококонцентрированный источник – диффузант,
который можно изготовить путем использования мышьяка. Кроме того эф-
фективность работы силовых диодов определяется резкостью характеристик
при пробойных напряжениях и номинальным коэффициентом ограничения.
В рабочем режиме силовые диоды под воздействием мощных импульсов вы-
деляют тепло и их оптимизация возможна на основе физического анализа те-
плопереноса по всей длине структуры, включая контактные области.
Востребованность диссертации вытекает из необходимости внедрения
усовершенствованных технологий, устройств разбраковки и защиты радио-
электронной аппаратуры, повышения выдерживаемой импульсной мощно-
сти, что связано с задачами, требующими целенаправленного подхода к про-
блемам снижения технологического брака и повышения надежности, расши-
рения области применения силовых диодов, а также снижения динамических
потерь мощности.
Данная диссертационная работа направлена на разработку технологии
получения низковольных ограничителей напряжения с малым разбросом
32
пробивных напряжений и низким дифференцальным сопротивлением, как в
прямом, так и в обратном направлениях, разработке радиационной техноло-
гии обеспечивающей оптимизацию пробивного напряжения, повышение бы-
стродействия и улучшение качества высокочастотных диодов.
Вместе с тем, в ряде случаев становится необходимым защита самих
приборов от непредсказуемого превышения токов в цепи, что требует разра-
ботки ограничителей токов, с параметрами обратимыми после прохождения
через них импульса тока.
Исходя из выше приведенного, комплексное изучение, как параметров
ограничителей напряжения и высокочастотных диодов, так и физических ас-
пектов технологии их изготовления (например, диффузией и радиационными
способами), направленных на оптимизацию конструкций и технологии изго-
товления силовых диодов и получение на этой основе оптимального сочета-
ния их параметров, в том числе с учётом требований к их радиационной
стойкости, является своевременной и актуальной.
Соответствие исследования приоритетным направлениям разви-
тия науки и технологий Республики Узбекистан.
Настоящая работа вы-
полнена в соответствии с приоритетными направлениями развития науки и
технологий Республики Узбекистан ППИ-3-«Энергетика, энерго- ресурсос-
бережение, транспорт, машино- и приборостроение; развитие современной
электроники, микроэлектроники, фотоники и электронного приборострое-
ния».
Обзор международных научных исследований по теме диссерта-
ции.
Исследования технологии получения и эксплуатационных параметров
силовых полупроводниковых диодов различного вида (ограничителей на-
пряжения, стабилитронов, тиристоров, высокочастотных выпрямительно-
ограничительных диодов) с учетом потребности в радиоэлектронике, авто-
мобильной промышленности, набирают темпы и достигнуты определенные
успехи в США, Канаде, Англии, Голландии, Китае и России и др.
В публикациях ряда крупнейших компаний, таких как Philips Semicon-
ductors, STMicroelectronics, Littelfuse, Moeser Electronics, ON Semiconductor,
SGS-Thomson, Центр «СЭЛТ» и др. отмечено, что проводимые исследования
направлены на разработку силовых диодов с улучшенными параметрами,
удовлетворяющими постоянно возрастающие требования потребительского
рынка. В исследованиях большое внимание уделяется актуальности и вос-
требованности работ, посвященных повышению надежности и оптимизации
эксплуатационных параметров, силовых полупроводниковых приборов.
В связи с этим, разработка новых технологий изготовления силовых
приборов и модернизация существующих технологий находится в поле вни-
мания ведущих научно-исследовательских центров, в частности, разработчи-
ками фирмы Sigetronics Inc. показано, что применение эпитаксиальной тех-
нологии позволяет получить низковольтные ограничители напряжения с па-
раметрами, превосходящими параметры аналогов на основе диффузионной
технологии. Другим направлением исследований является изучение влияния
радиационного воздействия на параметры силовых диодов, которое позволя-
33
ет оптимизировать параметры диодов после завершения технологических
процессов. Например, учеными Швейцарии путем радиационного легирова-
ния базовой области кремниевого силового диода палладием получено
меньшее значение времени жизни неосновных носителей, чем при легирова-
нии платиной.
Степень изученности проблемы.
В последнее время интенсивно про-
водятся экспериментальные и теоретические работы, посвященные техноло-
гии создания и оптимизации параметров высокочастотных и ограничитель-
ных диодов на основе кремния. Большинство из них направлено на оптими-
зацию эксплуатационных параметров за счет конструктивных и схемотехни-
ческих решений, либо за счет использования комбинированных технологий
(лазерной технологии совместно с диффузионной, ионной имплантации с ра-
диационной). Однако вопросы модернизации существующей диффузионной
технологии и конструирования оптимальной арматуры, высокочастотных и
ограничительных диодов остаются без должного внимания. Успешное реше-
ние этой проблемы позволит без существенной реконструкции производства
улучшить не только параметры изделий, но и технико-экономические пока-
затели производства кремниевых
p
-n
-,
р
p-n
-
и
p
p-nn
-
структур.
Вместе с тем условия эксплуатации силовых высокочастотных и огра-
ничительных диодов налагают жесткие требования к их параметрам. Зачас-
тую в одной электронной схеме приходится использовать две пары, а то и
больше ограничителей напряжения, где их параметры должны быть строго
идентичными. Однако при проведении технологических операций по изго-
товлению приборных структур могут создаваться дефекты, приводящие к
разбросу их эксплуатационных характеристик. В связи с этим возникает не-
обходимость разработки технологии получения высокочастотных и ограни-
чительных диодов с заданными параметрами.
Известные к настоящему времени работы не содержат сведений о тех-
нологии изготовления полупроводниковых высокочастотных и ограничи-
тельных диодов с градиентом концентрации носителей в выпрямляющем пе-
реходе на базе диффузионной технологии и методах идентификации и опти-
мизации их эксплуатационных параметров, что является актуальной пробле-
мой на сегодня.
Применение радиационно-технологических процессов, может повы-
сить быстродействие, обеспечить надежность исходных структур силовых
приборов. В тоже время, каждый раз при выборе радиационного воздействия,
приходится решать проблему оптимального сочетания параметров изделий,
подвергшихся радиационной обработке. В результате возникает проблема
разработки общих подходов к выбору того или иного радиационного воздей-
ствия, которое обеспечит оптимальное сочетание параметров для диодов, чей
p-n
переход изготовлен различными технологическими методами (планарная
технология, меза-диффузионная и т.п.). Поэтому разработка таких методов
также является актуальной инженерной задачей, решение которой позволит
расширить область применения приборов этого класса (и, соответственно,
34
расширить рынки сбыта) не прибегая к дорогостоящим экспериментам с ис-
пользованием не всегда доступных источников радиации.
Другой проблемой является то, что известные методы, предназначен-
ные для исследования силовых приборов - ограничителей напряжения, высо-
кочастотных выпрямительных диодов не удовлетворяют по точности, а ис-
пользование известных методов определения параметров стабилитронов яв-
ляется некорректным.
Таким образом, известные к настоящему времени работы не содержат
сведений об оптимальной технологии и оптимизации параметров полупро-
водниковых высокочастотных и ограничительных диодов, что является акту-
альной проблемой на сегодня.
Связь
диссертационного
исследования
с
планами
научно-
исследовательских работ.
Работа выполнена в рамках Государственной
программы НИР ФТИ НПО «Физика-Солнце» А3-ФА-0-10-440 «Разработка
методов термической и электроимпульсной обработки для увеличения выхо-
да при производстве дефицитных групп полупроводниковых приборов (ОАО
«FOTON»)».
Целью исследования
является разработка оптимизированной диффу-
зионной технологии получения кремниевых диодных структур с уменьшен-
ными значениями дифференциального сопротивления и улучшение качества,
повышение надежности высокочастотных выпрямительных диодов и ограни-
чителей напряжения при радиационном воздействии.
В соответствии с поставленной целью решались следующие
задачи ис-
следования:
разработать технологию высоко концентрационной диффузии мышьяка
в кремний из неограниченного источника для изготовления низковольтных
структур с большим градиентом концентрации примесей на границе
p-n
-
перехода, чем при легировании фосфором, выдерживающих воздействие
кратковременных мощных импульсов перенапряжения;
разработать условия термо воздействия, обеспечивающие снижение
разброса основного электрического параметра, получаемых низковольтных
р-п-
переходов в кремнии от процесса к процессу;
разработать метод получения омического контакта с минимальным
эффектом переноса на границе материала контакта с полупроводником;
разработать универсальный, физически обоснованный метод измере-
ния функциональных параметров ограничителей напряжения. В данном слу-
чае требуется разработать усовершенствованную методику определения на-
пряжения ограничения с учетом режимов измерения и коэффициента эффек-
тивности ограничителей напряжения;
разработать тепловую модель ограничителя напряжения, объясняю-
щую процессы выделения и поглощения импульсной мощности в соответст-
вующих областях конструкции диода в зависимости от его режима включе-
ния;
определить оптимальные условия и режимы технологического радиа-
ционного воздействия на силовые выпрямительные диоды,
p-n-
переход кото-
35
рых изготовлен различными методами;
изучить влияние радиационного воздействия на напряжение пробоя и
ограничения ограничителей напряжения для идентификации их эксплуатаци-
онных параметров;
разработать ограничители тока на основе арсенида галлия для защиты
ограничителей напряжения.
Объектом исследования
являются низковольтные и высоковольтные
ограничители напряжения с
p
+
n
+
,
p
+
-n-n
+
, а также
p
+
-p-n-n
+
-структурами, вы-
сокочастотные выпрямительные диоды, изготавливаемые на основе кремния
и ограничители тока на основе арсенида галлия.
Предмет исследования
- процессы диффузионного легирования крем-
ния мышьяком, модели идентификации эксплуатационных параметров высо-
кочастотных диодов и ограничителей напряжения при воздействии радиаци-
онного излучения, способы получения омических контактов с улучшенной
адгезией к поверхности полупроводника.
Методы исследования.
В процессе исследования применены методы
вольтамперных и вольтемкостных характеристик; метод радиационного воз-
действия, зондовые методики определения поверхностного сопротивления,
методы дифференциальной проводимости, методы моделирования.
Научная новизна диссертационного исследования
заключается в
следующем:
впервые разработана технология получения низковольтных ограничи-
телей напряжения (меньше 7 В) на основе легированных мышьяком крем-
ниевых
р
+
-n
+
-структур для защиты блоков питания;
впервые разработан способ получения мощных кремниевых выпрями-
тельно-ограничительных диодов (10А) на основе кремниевых
р
+
-p-n-n
+
-
структур с эффективными теплоотводящими контактами, предназначенные
для использования в качестве выпрямителя, ограничителя и блокирующих
диодов;
разработан способ получения омического контакта к силовому диоду с
р
+
-р-n-n
+
-
переходом из трех слоев на основе ванадия и двух слоев серебра,
которые сплавляются при 450
,
С
о
в качестве теплоотводящего компенсатора
выбрана медная прослойка гальванически покрытая серебром;
разработан новый двухгенераторный метод измерения напряжения ог-
раничения в три раза меньшей погрешностью измерения по сравнению с из-
вестным одногенераторным методом;
впервые разработан полупроводниковый прибор на основе арсенида
галлия, содержащий полупроводниковую подложку первого типа проводи-
мости с омическим контактом, тонкий слой второго типа проводимости с
двумя омическими контактами отстоящими друг от друга на определенном
расстоянии, выводной электрод, присоединенный к омическому контакту;
разработана методика определения эффективности ограничения на-
пряжения из зависимости сопротивления диода от плотности тока в области
пробоя в широком диапазоне напряжений;
36
разработаны тепловые модели, основанные на расчете теплопередачи и
температуры перегрева
p-n
-перехода в режиме включения и подаче импульс-
ного напряжения в виде генератора температурного потенциала и генератора
теплового потока;
разработана инженерная методика определения соответствующего вида
радиационного технологического воздействия, которая позволяет получить
оптимальное сочетание параметров ограничителей напряжения и высокочас-
тотных диодов;
впервые разработано устройство защиты радиоэлектронной аппарату-
ры с индикацией момента выхода из строя ограничителей напряжения.
Практические результаты исследования
заключаются в следующем:
разработаны технологические условия получения низковольтных огра-
ничителей напряжения с близкой к металлической проводимости сильноле-
гированными областями, включающие оригинальные операции диффузии
мышьяка в кремний;
предложен усовершенствованный компенсационный метод исследова-
ния импульсных характеристик ограничителей напряжения, а также новый
метод определения их коэффициента эффективности ограничения напряже-
ния, основанный на токовой зависимости дифференциального сопротивле-
ния;
разработаны технологические и конструктивные аспекты изготовления
мощных
выпрямительно-ограничительных
блокирующих
диодов,
обеспечивающие повышение выдерживаемой мощности;
предложены методы оптимизации параметров высокочастотных и ог-
раничительных диодов и устройства защиты радиоэлектронной аппаратуры
по току и напряжению;
разработаны инженерные расчёты позволяющие находить оптималь-
ные материалы и конструкторские решения для ограничителей напряжения
согласно требованиям потребительского рынка, направленные на расшире-
ние их сбыта и увеличение конкурентоспособности;
предложены методы инженерного расчёта эксплуатационных парамет-
ров ограничительных диодов, которые дали возможность прогнозирования
временных характеристик ограничителей напряжения под воздействием ней-
тронного облучения;
разработаны инженерные методы расчёта основных параметров высо-
кочастотных выпрямительных диодов позволяющие прогнозировать
пара-
метры изделий после радиационного воздействия, подбирать оптимальную
дозу облучения и тем самым повысить воспроизводимость технологического
процесса и выход годных приборов.
Достоверность полученных результатов
подтверждается применени-
ем при изучении физических процессов обшепринятых научных методов,
стандартных и апробированных в заводских условиях методики исследова-
ния. Выводы основаны на экспериментальных данных, согласующихся с тео-
ретическими расчетами.
37
Теоретическая и практическая значимость результатов исследова-
ния.
Разработанные ограничители напряжения, выпрямительно-ограничи-
тельные блокирующие диоды используются для защиты радиоэлектронной
аппаратуры от перенапряжений, в электрических цепях постоянного и пере-
менного тока, а высокочастотные диоды используются в устройствах вы-
прямления и преобразования энергии.
Внедрение результатов исследования.
В ходе выполнения диссерта-
ционной работы получены 3 патента Республики Узбекистан (№ IAP 04599
04.10.2012г., № IAP 04721 03.05.2013г., № IAP 04571 22.08.2012г.) и Патент
Российской Федерации (№ 2522786 21.05.2014г.). По результатам исследова-
ний разработаны технологии изготовления высокочастотных выпрямитель-
но-ограничительных диодов и низковольтных ограничителей напряжения, а
также методы оптимизации характеристик ограничителей напряжения и вне-
дрены в производство в ОАО «FOTON», годовой экономический эффект ко-
торого составил 78 млн. сумм. (Акт внедрения от 12.12.2013г. Ассоциации
«Узэлтехсаноат»).
Апробация работы.
Результаты диссертационной работы докладыва-
лись и обсуждались на международных и республиканских конференциях:
«Современные информационные и электронные технологии» (Одесса, 2011);
(Одесса, 2013); «Фундаментальные и прикладные вопросы физики» (Таш-
кент, 2010); «Современные информационные и электронные технологии»
(Одесса, 2010, 2013); «Young Scientists Conf. Optics and High Tech. Mater. Sci.
SPO-2010 (Kyiv, 2010); «Современные техника и технологии горно-
металлургической отрасли и пути их развития» (Навои, 2010); II-
Международная конференция по оптическим и фотоэлектрическим явлениям
в полупроводниковых микро- и нано структурах» (Фергана, 2011). «Interna-
tional Conference Nuclear science and its application» (Samarkand (Uzbekistan)
September 25-28, 2012).
Основные результаты диссертационной работы доложены и обсуждены
(май 2014) на расширенном семинаре по направлению физики полупровод-
ников при Физико-техническом институте НПО «Физика-Солнце» АН РУз, а
также в одноразовом Научном семинаре (август 2014) при Научном совете
16.07.2013.FM/T.12.01
при Физико-техническом институте АН РУз, Институ-
те ионно-плазменных и лазерных технологий АН РУз и Самаркандском госу-
дарственном университете по присуждению ученой степени доктора наук по
специальности 01.04.10-Физика полупроводников (технические науки).
Опубликованность результатов.
Полученные результаты отражены в
35 научных трудах, которые полностью отражают ее содержание. В том чис-
ле 18 статьей опубликованы в реферируемых зарубежных и 2 в республикан-
ских журналах, а 11 в трудах международных и республиканских конферен-
ций, получены 4 патента.
Структура и объем диссертации.
Диссертация состоит из введения,
пяти глав, выводов и списка литературы. Она изложена на 203 страницах
машинописного текста, содержит 88 рисунка, 12 таблиц, включая цитиро-
ванную литературу из 139 наименований.
38
ОСНОВНОЕ СОДЕРЖАНИЕ ДИССЕРТАЦИИ
Во введении
обоснована актуальность проблемы и темы диссертаци-
онной работы, сформулированы цели и задачи, научная новизна и практиче-
ская значимость работы, приведены основные положения, выносимые на за-
щиту.
В первой главе
приведен
обзор литературных данных по состоянию
и проблемам оптимизации параметров высокочастотных диодов и ограничи-
телей напряжения. Рассмотрены конструктивные и схемотехнические пути
оптимизации параметров силовых диодов, проанализированы технологии по-
лучения низковольтных силовых диодов с
p
-n
-переходом. Проанализиро-
ваны известные методы измерения параметров и повышения эффективности
ограничителей напряжения, а также радиационные методы оптимизации па-
раметров полупроводниковых приборов. Сделано заключение, что разработ-
ка высококонцентрационной диффузии мышьяка в кремний позволит полу-
чить лучшие электрические параметры низковольтных структур с
p
-n
-
переходом, чем при легировании фосфором. Такие параметры как напряже-
ние пробоя, быстродействие высокочастотных диодов и ограничителей на-
пряжения могут быть оптимизированы путем воздействия радиационным из-
лучением.
Во второй главе
приводятся физико-технологические аспекты созда-
ния низковольтных ограничителей напряжения диффузией мышьяка в крем-
ний из неограниченного источника, технология изготовления мощных вы-
прямительно-ограничительных диодов, способ получения омического кон-
такта с улучшенной адгезией к поверхности полупроводника, основные ха-
рактеристики
силовых диодов на основе кремниевых
p
-n
, p
-n-n
и p
р-n-
n
-
структур.
На основе изучения физико-технологических аспектов создания низко-
вольтных ограничителей напряжения методом ампульной диффузии мышья-
ка в кремний впервые подобран состав диффузанта (450 мг
As
, 5 г
Si
) обеспе-
чивающий, в отличие от традиционной диффузии фосфора, высокую поверх-
ностную концентрацию и малый разброс напряжения пробоя низковольтных
p
-n
-
переходов, как приведено в таблице 1.
Сравнение пробойных характеристик низковольтных ограничителей
напряжения легированных мышьяком, фосфором, а также зарубежного ана-
лога показало, что для ограничителя напряжения изготовленного диффузией
мышьяка наблюдается свойственный эффективным ограничителям напряже-
ния резкий переход из низкопроводящего состояния в высокопроводящее,
(рис. 1).
Для снижения потерь мощности исследуемых диодов связанных с кон-
тактами, в качестве материала омического контакта вместо никеля и золота
предложено использовать ванадий с двухслойным нанесением серебра. Бла-
годаря лучшим адгезионным и тепловым свойствам предлагаемого материала
контакта его также использовали при изготовлении выпрямительно-ограни-
чительных блокирующих диодов.
39
Таблица 1
Средние квадратичные отклонения напряжений пробоя
р-п- переходов для разных источников диффузии
базы
,
Ом
см
150 мг
As
U, В
200 мг
As
U, В
350 мг
As
U, В
Лигату-
ра*
U, В
250 мг
As
,
5 г
Si
U, В
450 мг
As
,
5 г
Si
U, В
0.001
1.23
0.67
0.54
0.25
0.10
0.08
0.002
1.17
0.50
0.83
0.37
0.15
0.18
0.003
0.81
0.28
0.35
0.30
0.18
0.16
0.005
0.30
0.23
0.37
0.32
0.23
0.18
0.008
0.54
0.40
0.41
0.47
0.33
0.24
*лигатура представляет собой порошок кремния
р
-типа отожженный в вакууме в при-
сутствии мышьяка при 1000
0
С в течение 48 ч. и затем измельчен в ступке
Впервые разработанная технология изготовления выпрямительно-огра-
ничительного блокирующего диода с
p
р-n-n
-
структурой включает в себя
получение области
р
-типа проводимости и сильнолегированных областей
n
-
и
р
-типа проводимости методом диффузии, напыление на обе поверхности
0,0
4,0x 10
-5
8 ,0 x10
-5
1,2 x1 0
-4
0 ,0
0 ,2
0 ,4
0 ,6
0 ,8
1 ,0
R /R
м акс
I
о бр
, А
2
1
1
A s
2
P
Рис. 1.
Зависимости дифферен-
циального сопротивления огра-
ничителя напряжения от
обратного тока
тонких слоев (0.1÷0.3 мкм) ванадия и серебра, а также их сплавление с посе-
ребренным медным диском вместо вольфрамового диска. В отличие от ана-
лога улучшенные теплоотводящие свойства разработанного диода при токах
до 10А предотвращают разогрев диода, а обратные токи более устойчивы
температурным воздействиям и пробой
р-п
-перехода является обратимым. В
высоковольтных ограничителях напряжения с
p
-n-n
-
структурой получен-
ных диффузией бора и фосфора в кремний
п
-типа проводимости напряжения
пробоя носят лавинный характер, а требуемые напряжения пробоя можно
получить, подбирая удельное сопротивление базовой области или путем
комбинации низковольтного и высоковольтного ограничителей напряжения,
мощности можно изменять за счет их параллельного соединения.
Третья глава
посвящена новым методам исследования основных па-
раметров силовых диодов и устройствам защиты радиоэлектронной аппара-
туры. Описана предложенная методика определения эффективности ограни-
чения напряжения диодных структур, приведено техническое описание усо-
вершенствованной установки измерения основных параметров ограничите-
лей напряжения, а также изложены принципы действия предлагаемого поле-
вого диода и разработанного устройства защиты радиоэлектронной аппара-
туры.
40
На основе изучения взаимосвязи коэффициента ограничения опреде-
ляемого в импульсном режиме
проб
имп
огр
имп
огр
U
U
К
/
.
.
с введенным коэффициен-
том эффективности при заданных токах предложено осуществлять отбраков-
ку низковольтных ограничителей напряжения не отвечающих технологиче-
ским нормам параметров в ранней стадии до установки на корпуса. Коэффи-
циент эффективности представляет собой степень изменения напряжения на
ограничителе напряжения при изменении обратного тока
проб
огр
проб
D
огр
D
I
I
R
R
R
R
Z
ln
ln
)
/
ln(
)
/
ln(
max
max
,
(1)
то есть чем меньше изменение напряжения для заданного интервала тока, тем
качественнее ограничитель напряжения. Действительно сравнение данных
характеристических параметров ограничителя напряжения в зависимости от
легирующей примеси показали, что образцы, изготовленные путем легирова-
ния мышьяком, имеют меньший разброс по напряжению пробоя и выдержи-
вают большую импульсную мощность, чем образцы легированные фосфо-
ром, (табл. 2).
Таблица 2
Данные характеристических параметров ограничителей напряжения
в зависимости от легирующей примеси
U
проб
, В
U
проб
, В
№ об
раз-
ца
1 мА
4 мА
Z
К
огр.и
Р
и,
кВт
1 мА
4 мА
Z
К
огр.и
Р
и,
кВт
7.5 В ограничители напряжения
легированные мышьяком
8 В ограничители напряжения легиро-
ванные фосфором
1
7.35
7.52
0.99
1.19
1.85
8.35
9.0
0.87
1.4
1.5
2
7.39
7.53
0.99
1.18
1.9
8.35
8.8
0.9
1.5
1.6
3
7.38
7,58
0.98
1.21
1.85
8.14
8.9
0.86
1.38
1.5
4
7.4
7.6
0.9
1.18
1.85
7.7
8.7
0.84
1.42
1.6
5
7.44
7.62
0.99
1.24
1.85
7.9
8.6
0.86
1.39
1.6
6
7.4
7.65
0.99
1.22
1.78
8
8.8
0.85
1.4
1.58
7
7.6
7.75
0.98
1.22
1.8
8.2
8.9
0.87
1.38
1.5
Следует отметить, что измерения параметров мощных ограничителей
напряжения проводили усовершенствованным двухгенераторным методом с
меньшей погрешностью, по сравнению с известным прямым методом, кото-
рый не обеспечивает требуемую погрешность измерения из-за зависимости
абсолютной величины погрешности измерения от плотности тока.
Двухгенераторный метод основан на математической модели опреде-
ления напряжения ограничения
U
огр
=U
проб
+r
d
·I
max
,
(2)
где
r
d
– дифференциальное сопротивление в области пробоя. Так как
переменная составляющая напряжения ограничения для всех ограничитель-
ных диодов не превышает 20
%U
огр
, то в предлагаемом методе измерение
U
огр
41
заменяется измерением постоянного обратного напряжения
U
проб
и малой
импульсной составляющей
U
^
= r
d
·I
max
.
Измерение
U
проб
производят с помощью вольтметра постоянного тока
(комбинированный прибор Щ-300 с погрешностью не более 1%). Блок пита-
ния БП1 обеспечивает максимальный импульсный ток
I
max
и выходное на-
пряжение
max
0
max
0
1
5
1
I
R
R
U
I
R
R
U
U
U
из
огр
из
проб
огр
БП
. (3)
Необходимая мощность на блоке питания
ΔP
БП
=0,8U
огр
·I
max
меньше,
чем у блока питания прямого метода измерения. Блок питания БП2 обеспе-
чивает постоянное обратное напряжение и напряжение пробоя
U
БП2
=U
проб
с
погрешностью не более 2%, которое измеряется и контролируется вольтмет-
ром постоянного напряжения (
V
П
),
δ
VП
=1%. В результате общая погрешность
измерения в новом методе напряжения ограничения составляет до
%
2
.
Одним из назначений разрабатываемых ограничителей напряжения яв-
ляется обеспечение заданного напряжения на входе защищаемой цепи. Одна-
ко при превышении допустимого порогового напряжения пробоя ограничи-
тель напряжения может выйти из строя за счет необратимого пробоя. Поэто-
му для его защиты требуются ограничители тока, обеспечивающие заданный
ограниченный ток. Эти условия могут быть удовлетворены с помощью моду-
ля защиты и ограничителя тока.
Впервые разработанный модуль защиты радиоэлектронной аппаратуры
предназначен для предотвращения выхода из строя различной техники (ком-
пьютер, телевизор и т.д.) и входящего в его состав ограничителя напряжения.
Радиоэлектронная аппаратура подключается к разработанному модулю за-
щиты через симистор, управляемый светодиодами, светящимися при скачке
напряжения в сети, как приведено на рис. 2.
Принцип его работы состоит в том, что излучение от светодиода будет
поступать на двухбарьерный фотодиод, фототок которого приведет к запира-
нию симистора и отключению питания радиоэлектронной аппаратуры. По
окончании импульса напряжения аппаратура опять включается. Особенность
токовой характеристики впервые разработанного полупроводникового поле-
вого диода, то есть неизменность тока в широком диапазоне напряжений от
участка насыщения до пробойного придает ему свойства стабилизатора тока.
Рис. 2. Модуль защиты
радиоэлектронной аппаратуры
Это свойство используется для пре-
дотвращения от необратимого пробоя
низковольтного ограничителя напря-
жения. Принцип работы предлагае-
мого полевого диода идентичен дей-
ствию полевого транзистора, исток
которого закорочен на затвор. То есть
является двухполюсником, последо-
вательно соединяемым к ограничите-
лю напряжения.
42
Величина тока в широком диапазоне напряжений на участке насыще-
ния управляется световым излучением.
В четвертой главе
рассмотрены временные характеристики, процессы
теплопереноса в стационарном режиме, выделения и поглощения импульс-
ной мощности в динамическом режиме.
В стационарном режиме пробоя теплоперенос в ограничителе напря-
жения объясняется одномерной моделью благодаря распространению выде-
ляемого в области объемного заряда тепла по аксиальной составляющей к
контактам и описывается дифференциальным уравнением
2
2
'
dV
t
dP
dx
T
d
dt
dT
c
v
(4)
где:
λ
– удельная теплопроводность;
с
v
- удельная теплоемкость;
'
– плотность вещества;
P(t)
– мощность;
V
– объем рассматриваемой
области. При граничных значениях
корпус
Т
D
Т
)
2
/
(
температура перехода не
зависит от площади теплоотвода, а зависит от его массы
'
C
t
R
Р
Т
имп
T
(5)
где
имп
t
- длительность импульса,
'
C
- теплоемкость корпуса.
При подаче резко растущего импульса обратного тока на ограничитель
напряжения через него будет протекать емкостной ток и при достижении на-
пряжения пробоя он включается. Время необходимое для его полного вклю-
чения будет определяться выражением
e
B
n
p
s
вкл
t
j
N
qW
j
E
t
2
max
0
(6)
состоящем из времени заряда барьерной емкости
p-n-
перехода
(7)
и времени распространения ударной волны
j
N
qW
W
t
B
n
p
уд
n
p
уд
2
2
(8)
плюс времени релаксации энергии
сек
t
e
12
10
~
От подаваемого стандартного импульса ограничитель напряжения
включается, выделяя тепловую энергию, определяемую прилагаемой мощно-
стью и временем включения
вкл
вкл
вкл
W
q
IR
t
R
I
t
P
Q
0
0
2
2
1
2
2
(9)
43
В то же время тепловая энергия, выделяемая в обедненной области пропор-
циональна приращению температуры, удельной теплоемкости, плотности по-
лупроводника и объема обедненной области
W
v
ext
W
W
c
T
T
Q
V
0
,
(10)
При этом температура обедненной области
p-n
-перехода после включения
определяется отношением произведения тока, сопротивления перехода, ко-
личества заряда к теплоемкости обедненной области
W
W
T
вкл
T
вкл
W
v
вкл
окр
W
C
IRq
C
t
R
I
V
Rt
I
T
T
2
2
с
2
0
2
2
(11)
Температурный потенциал (
р
Т
) создаваемый в ограничителе напряжения оп-
ределяется соотношением
имп
t
вкл
имп
окр
р
e
I
q
T
T
T
2
max
max
2
(12)
На линейном участке нарастания температуры температурный потенциал оп-
ределяется следующим выражением:
t
C
q
R
C
q
R
t
I
T
T
T
Tw
w
Tw
w
i
2
2
)
(
0
0
0
(13)
После окончания процесса включения температура обедненной области
p-n
-
перехода принимает максимальное значение и определяется следующей
формулой:
2
0
0
Tw
w
m
w
m
C
q
R
I
T
T
T
(14)
В режиме включения диода
температура
p-n-
перехода уменьшается
быстрее, чем уменьшение тока, поэтому
p-n
-переход выступает как генератор
температурного потенциала. Согласно формулы (9), опысывающей тепловую
энергию в динамическом режиме, тепловой поток определяеться отношением
к времени включения произведения максимального тока к тепловому сопро-
тивлению:
вкл
t
Rt
I
dt
dQ
Ф
2
max
1
(15)
и линейно зависит от времени, принимая максимальное значение при
t=t
вкл
:
P
R
I
Ф
2
max
max
.
(16)
Принимая уменьшение тока на участке спада импульса экспоненциальной
имп
t
e
I
I
max
, а тепловую энергию равной
имп
t
e
RtI
Q
2
2
max
, для теплового потока
имеем
44
имп
t
t
имп
t
t
e
RI
e
RI
t
e
RI
dt
dQ
Ф
имп
имп
имп
2
1
2
2
2
max
2
2
max
2
2
max
2
или
имп
имп
t
t
Pe
e
RI
Ф
2
2
2
max
2
.
(17)
Так как тепловой процесс должен идти с тепловой постоянной
,
1
Tw
Tw
T
C
R
(
2
1
проб
Tw
вкл
Tw
U
C
Rq
R
) поэтому тепловой поток определяется выражени-
ем
2
2
T
t
Рe
Ф
.
(18)
Таким образом, обедненная область
p-n-
перехода ограничительного
диода при воздействии стандартного импульса рассматривается как генера-
тор теплового потока, который проходит через ее границы на фронте им-
пульса и при включении
достигает
максимального значения равного подво-
димой мощности.
В пятой главе
приведены результаты исследования влияния радиаци-
онного облучения на функциональные характеристики высокочастотных вы-
прямительных диодов и ограничителей напряжения.
а) вид сверху
б) поперечный разрез структуры диода
Рис. 3. Геометрический разрез планарного высокочастотного диода
Радиационному воздействию подвергались высокочастотные планар-
ные диоды, а также диффузионные диоды, геометрический разрез которых
приведен на рис. 3 и 4. Образцы, выбранные для исследований, отличались
Рис. 4. Геометрический разрез
диффузионного высокочас-
тотного диода
45
минимальным разбросом по падению напряжения, прямому и обратному то-
ку, обратному напряжению, а также по времени восстановления обратного
тока (
U
F
,
I
F
,
I
R
,
U
R
,
t
rr
), где
U
F
=(0.92÷0.93) В (при
I
F
= 1A,
I
R
= (15±2) нA,
U
R
=
200 В);
t
rr
≤ (150±10) 10
-9
сек (при
I
F
/I
R
= 1 и уровне отсчета 0.1 А). Облучение
образцов гамма-квантами проводилось на гамма установке ИЯФ АН Респуб-
лики Узбекистан, а облучение электронами на ускорителе электронов типа
У-003 в ОАО «FOTON». Средняя энергия гамма-квантов при облучении дио-
дов на гамма установке соответствовала гамма-излучению Co
60
(~1.25 MэВ) c
интенсивностью ~10
12
см
-2
сек
-1
. Точность определения потока гамма-квантов
(
Ф
γ
), которым облучались диоды, составляла 5 %. Средняя энергия электро-
нов при облучении диодов электронами составляла (4÷4.5) MэВ с интенсив-
ностью ~ (2.5÷3) 10
11
см
-2
сек
-1
. Точность определения флюенса электронов
(
Ф
е
), которым облучались диоды, составляла ~15%.
Для высокочастотных планарных структур величина Δ(1/
t
p
) прямо-
пропорциональна потоку гамма-квантов (
Ф
γ
) и флюенсу электронов (
Ф
е
)
Δ(1/
p
)
γ
=
Kt
γ
·Ф
γ
и Δ(1/
p
)
e
=
Kt
e
·Ф
е
. Подобная зависимость константы повреж-
даемости от дозы облучения согласно теории рекомбинации Шокли-Рида
связана с А-центром, расположенным на расстоянии ~ 0.17 эВ от дна зоны
проводимости.
Рассчитанные на основе экспериментальных данных величи-
ны констант повреждаемости имеют значения
Kt
γ
= 3.35·10
-11
см
2
/с
и
Kt
e
=
2.5·10
-8
см
2
/с очень близкие к литературным данным.
Величины экспериментально наблюдаемых значений обратных токов
I
r01γ
и
I
r01е
лежат в интервале от 3.7∙10
-8
А до 5∙10
-8
А, что весьма близки к вы-
численным максимальным значениям
A
I
rs
9
max
10
50
. Слабую зависимость
обратного тока (увеличение на 15÷20%) от дозы (флюенса) гамма излучения
Ф
γ
= (2-14)·10
17
см
-2
и электронов
Ф
e
= (2.5÷20)·10
14
e/см
2
можно связать с об-
разованными Е-центрами, расположенными на расстоянии
E
m
= - 0.4 eV от
дна зоны проводимости. Величина обратного тока после облучения гамма-
квантами Cо
60
на 15%÷20% меньше, чем при облучении их электронами с
энергией 4÷4.5 MэВ, то есть гамма-облучение является более оптимальным
воздействием, чем облучение электронами. При этом
зависимости падения
напряжения от времени восстановления обратного сопротив-ления
U
F
=
f(
t
rr
)
для обоих видов облучения полностью совпадают друг с другом, соответ-
ственно оба вида облучения (гамма-квантами Cо
60
и электронами с энергией
4÷4.5 MэВ) идентичны с точки зрения соотношения между
t
rr
и
U
F
.
По мере
увеличения дозы облучения падение напряжения увеличивается до 1.2В, а
время восстановления обратного сопротивления уменьшается со 150нс до 10
нс, повышая быстродействие ограничительных диодов. Высокочастотные
диффузионные диоды, подвергаемые гамма и электронному воздействию
имеют минимальный разброс по исследуемым параметрам. Прямое падение
напряжения
U
F
=0.75÷0.8В при прямом токе
I
F
=10A, обратный ток
I
R
~
0.5÷0.7 мкА и 0.7÷1.0 мкА при обратном напряжении
U
R
= 100 В и 200 В со-
ответственно, время восстановления обратного сопротивления
τ
rr
≤
2.8±0.2∙10
-6
с при
I
F
= 1A,
I
F
/
I
R
= 1 и обратном токе 0.1 А.
46
Зависимости Δ(1/
t
p
) от
Ф
γ
и
Ф
е
имеют насыщающийся характер, что
свидетельствует об уменьшении констант повреждаемости с ростом потока
облучения как гамма-квантами, так и электронами. Падения напряжения от
дозы облучения увеличиваются линейно и описываются формулой
)
)
0
(
)
1
(
1
)
0
(
)
1
(
2
1
(
2
/
0
0
L
d
n
p
бro
б
e
p
b
bn
p
b
bn
L
d
L
U
U
,
(19)
полученной с учетом распределения примесей в
p-n
-переходе
Δp
(x) ≈ Δ
p
(0)∙exp(-x/
L
p
)
(20)
и
Δ
p
(x) ≈ Δ
p
(
d
)∙exp[(x-
d
)/
L
p
],
(21)
где
U
бro
= (
I
f
·ρ·б·d
)/
S
pn
.
Экспериментальные зависимости падения напряжения от дозы (флюен-
са) гамма излучения
Ф
γ
=до 1.5·10
18
см
-2
и электронов до
Ф
e
= 9·10
14
e/см
2
ли-
нейно увеличиваются от 0.77 до 0.9В и удовлетворительно совпадают с рас-
четными данными.
Дозовые зависимости обратного тока высокочастотных диффузионных
диодов для гамма- и электронного облучения меняются линейно с коэффици-
ентами радиационного изменения обратного тока равными 1.2∙10
-18
мкА∙см
2
и
1.6∙10
-15
мкА∙см
2
и описываются ниже приведенной зависимостью:
I
r
=K
Irγ(e)
·Ф
γ(e)
+ I
ro
(22)
где
I
ro
- обратный ток до облучения.
Экспериментальные значения коэффициентов радиационного изменения об-
ратного тока рассчитаны с помощью следующей формулы и приведены в
таблице 3.
dФ
dM
V
n
n
n
n
V
V
n
n
K
p
p
n
n
p
p
t
0
1
0
0
/
/
)
/
1
(
)
/
1
(
(23)
Из таблицы следует, что экспериментальное значение величины ко-
эффициента радиационного изменения обратного тока находится внутри
диапазона возможных его значений, определяемых концентрацией кислоро-
да.
Таблица 3
Данные коэффициентов радиационного изменения обратного тока
K
Irγ
∙10
18
, мкА∙см
2
K
Ire
∙10
15
, мкА∙см
2
N
o
=5∙10
17
см
-3
N
o
=1∙10
18
см
-3
Значение из
эксперимента
N
o
=5∙10
17
см
-3
N
o
=1∙10
18
см
-3
Значение из
эксперимента
1.4
0.7
1.2
1.7
0.4
1.6
47
Это свидетельствует о том, что величину обратного тока кремниевых
диффузионных диодов после воздействия на них потока гамма-квантов (
Ф
γ
) и
флюенса электронного потока (
Ф
е
) формирует Е-центр.
Таким образом, экспериментально показано, что воздействие гамма- и
электронного облучения на время восстановления обратного сопротивления,
прямого падения напряжения и обратного тока кремниевых мощных диффу-
зионных диодов эквивалентно.
На основе изучения характеристических параметров ограничителей
напряжения при радиационном воздействии флюенсами нейтронов (до 3∙10
15
см
-2
) выявлены особенности поведения времени жизни неосновных носите-
лей, падения напряжения и пробоя, толщины слоя объемного заряда и пути
их оптимизации. А также исследованы ограничители напряжения, имеющие
р
+
рn
+
-
структуру, полученные диффузионной технологией с напряжением ог-
раничения
U
огр
=50 В и напряжением ограничения
U
огр
=200 В.
Облучение образцов нейтронами осуществлялось на исследователь-
ском реакторе ИИН-3М. Оценка флюенса нейтронов с энергией E>3 МэВ
осуществлялась по серным индикаторам S
32
с последующим приведением (по
известному спектру реактора ИИН-3М) к флюенсу нейтронов с энергией E ≥
100 кэВ. Средняя энергия нейтронов при этом составляла ~ 1.5 MэВ, а по-
грешность дозиметрии ± 20%.
Радиационному воздействию, с последующим измерением вышеука-
занных параметров подвергались выборки, состоящие из 20 ограничителей
напряжения каждого типа. То есть, первого типа 50 вольтовые и второго типа
200 вольтовые. Выборки были разделены на 5÷6 частей (по 3÷4 ограничителя
напряжения в каждой части), каждая из которых облучалась в два этапа
(двумя потоками нейтронов) с измерением параметров ограничителей на-
пряжения после каждого этапа облучения.
На основе исследования влияния флюенса нейтронов на ограничители
напряжения с напряжениями ограничения 50 В и 200 В, полученных диффу-
зией, обнаружено, что для обоих ограничителей напряжения отношения
U
проб
(
Ф
)/
U
проб
(0) и
U
огр
(
Ф
)/
U
огр
(0) экспоненциально зависят от флюенса ней-
тронов
U
проб
(
Ф
)=
U
проб
(0)exp(
K
1
Ф
)
(24)
U
огр
(
Ф
)=
U
огр
(0)exp(
K
2
Ф
)
(25)
В них значения коэффициентов в показателе экспоненты для напряже-
ния пробоя
К
1
имеют близкие значения, а для напряжения ограничения
К
2
отличаются в более чем в 1.5 раза (табл. 4).
Таблица 4
Данные значения коэффициентов К
1
и К
2
.
К
1
,
см
2
/n
К
2,
см
2
/n
U
огр
= 50 В
U
огр
=200 В
U
огр
= 50 В
U
огр
=200 В
6.3·10
-17
7.0·10
-17
7.1·10
-17
1.1·10
-16
48
Для выяснения причин подобного расхождения в величине коэффици-
ента, при радиационном воздействии рассмотрены зависимости напряжения
пробоя от градиента концентрации, толщины слоя объемного заряда от флю-
енса нейтронов, а из вольтемкостных характеристик определены градиенты
концентрации и толщины слоев объемного заряда.
Зависимости емкости от запирающего напряжения при различных
флюенсах нейтронов описываются кубической зависимостью емкости от на-
пряжения, характерной для
p-n
-перехода с линейным распределением приме-
си
С
-3
=
[12(
U+U
экстр
)]/[
qa
(
εε
0
)
2
(
S
p-n
)
3
],
(26)
где величина «
а
» являясь истинным градиентом концентрации, описы-
вается уравнением
N(x)=a·х
и от дозы облучения флюенсами нейтронов опи-
сывается экспоненциальной зависимостью
а
=
а
(
Ф
=0)·exp(-
ВФ
).
(27)
Эти значения, вычисленные на основе вольтфарадных характеристик
независимо от большого различия удельного сопротивления обоих ограничи-
телей напряжения и величины
В
в показателе экспоненты для обоих ОН
близки друг к другу 2.6·10
-16
см
2
и 3.8·10
-16
см
2
, которые отличаются от сред-
него значения (3.2·10
-16
см
2
) не более чем на 30 %. Экспериментальные зави-
симости (точки) отношения градиента
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0) от флюенса нейтронов
Ф
и расчётная кривая exp(-
В·Ф
) при
В
=3.2·10
-16
см
2
, как приведено на рис. 5,
находятся в хорошем согласии.
Сравнивая экспоненциальную зависимость пробивного напряжения от
флюенса нейтронов (
Ф
),
)
10
6
.
6
exp(
)
0
(
/
)
(
17
Ф
Ф
U
Ф
U
проб
проб
(28)
с экспоненциальной зависимостью эффективного градиента концентрации от
флюенса нейтронов
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0)=exp(-3.2·10
-16
·
Ф
) (29)
обнаруживаем ее универсальность независимо от структуры
p-n
-перехода и
величины
а
до облучения.
1-50 вольтный ограничитель напряжения;
2-200 вольтный ограничитель напряжения;
3- сплошная линия расчётная
Рис. 5. Зависимости градиента
концентрации от дозы облучения
Взаимосвязь напряжения ограничения и напряжения пробоя от градиента
концентрации с дозовой зависимостью заключается в линейности зависимо-
49
сти напряжения ограничения от флюенса нейтронов. Экспериментальные
точки зависимости отношения
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0) от флюенса нейтронов
Ф
и рас-
чётная кривая exp(-
В·Ф
) при
В
=3.2·10
-16
см
2
удовлетворительно согласуются.
В режиме ограничения напряжения дифференциальные сопротивле-
ния являются очень низкими, а падения напряжения составляют меньше 100
мВ, поэтому в формировании напряжении ограничения
U
огр
=
U
проб
+
I
огр
R
посл
(30)
важную роль играет последовательное сопротивление базы
R
посл
=
R
посл базы
+
R
посл прол
.
(31)
В свою очередь
R
посл базы
=
ρ
б
[(
d
мб
-W
)/
S
],
(32)
где,
ρ
б
– удельное сопротивление нейтральной базы;
d
мб
– расстояние
от металлургического
p-n
-перехода до
nn
+
контакта.
Сопротивление области объемного заряда, где поле не столь велико,
определяется соотношением
R
посл прол
=(
W
-
W
m
)
2
/(2·
εε
0
·S·V
нас
),
(33)
где,
W
m
–ширина области объемного заряда, где происходит ударная иониза-
ция;
V
нас
–напряжение насыщения.
При этом для вычисления зависимости
R
посл.базы
(
Ф
) необходимо знать
зависимости
ρ
б
(
Ф
) и
W
(
Ф
), где зависимость толщины от флюенса можно вы-
числить, используя классическую формулу для ширины области объемного
заряда плавного
p-n
-перехода
W
(
Ф
,
U
проб
)=[(12
εε
0
·U
проб
)/(
q·a
)]
1/3
.
(34)
А вычисление значения напряжения пробоя осуществляется через толщину
области объёмного заряда и коэффициента удаления носителей под действи-
ем нейтронного облучения
K
ρ
= 1/
k
n
n
0
(
Ф
=0)
0.77
.
(35)
Значения коэффициента удаления для
n
-кремния составляют
k
n
=851, а для
p
-
типа кремния
k
р
=444.
Расчетные значения напряжения пробоя и напряжения
ограничения, толщины слоя объемного заряда
W
m
и константы изменения
удельного сопротивления
К
ρ
, приведены в табл. 5.
Таблица 5
Расчётные значения характеристических параметров
в зависимости от типа ограничителя напряжения
Тип ОН
U
проб
, В
U
огр
, В
W,
10
-4
см
W
m
, 10
-4
см
K
ρ,
10-
16
см
2
ОН 50 В
48.9
50.2
2.67·
1.09·
3.8·
ОН 200 В
224.4
229.8
0.17·
8.4·
0.154
50
С точки зрения исследования влияния нейтронного облучения на
структуру линейного
p-n
-перехода, представляют интерес размеры
i
-области,
которая образуется вблизи
p-n
-перехода в результате облучения. Эмпириче-
ское выражение для зависимости градиента концентрации от дозы
а
(
Ф
) пред-
ставляется формулой (27).
Размеры
i
-области можно определить с помощью формулы
W
i
=
W
c
W
a
;
W
c
(
Ф
,
U
) =
εε
0
∙
S
p-n
/
C
p-n
(
Ф
,
U
),
W
a
(
Ф
,
U
) =[12∙
εε
0
∙(
U+U
d
)]/
q·a
(
Ф
)}
1/3
. (36)
Зависимости толщины слоя объемного заряда от флюенса нейтронов рассчи-
таны по нижеприведенной формуле и представлены на рис. 6.
W
i
(
Ф
,
U
=0)
= [0,053/
a
(
Ф
=0)
0.94
]∙
Ф.
(37)
а)
50 вольтный ограничитель напряжения
б)
200 вольтный ограничитель напряжения
Рис. 6. Расчётная зависимость W
i
= F(Ф,U=0)
Таким образом, получены выражения для оценки толщины слоя объ-
емного заряда от флюенса нейтронов и приложенного напряжения, которые
позволяют предсказать возможные изменения области объемного заряда
р
+
nn
+
-
структуры. При этом вместе с изменением градиента концентрации
примесей базы также изменяются времена жизни неосновных носителей, оп-
ределяющие быстродействие диодных структур, чем меньше время жизни,
тем лучше.
В ограничителях напряжения обоих типов (50 В) и (200 В) зависимости
времени жизни неосновных носителей от дозы облучения имеют минимум
(оптимальную дозу), связанный с влиянием рекомбинационных центров.
Как приведено на рис. 7, спрогнозированный выше вид зависимости
τ
(
Ф
) с точкой минимума, определяемой формулой
Ф
=1/b, действительно
имеет место. При этом, точка этого минимума определяется экспоненциаль-
ным множителем в зависимости
K
τ
(
Ф
). Это обстоятельство, по нашему мне-
нию, является ещё одним доводом в пользу возможности использования мо-
дели Мессенджера для расчёта зависимости времени жизни от дозы облуче-
ния с помощью формулы
)
exp(
)
(
Ф
b
А
Ф
K
(38)
и
)
(
)
0
(
/
1
)
(
/
1
Ф
K
Ф
,
(39)
51
или пренебрегая величиной 1/
τ
(0) имеем
)
/(
)
exp(
)
(
Ф
А
Ф
b
Ф
.
(40)
Нетрудно видеть, что выражение (40) имеет экстремум (минимум) в точке
b
Ф
/
1
(41)
а) 50 вольтный ограничитель напряжения
б) 200 вольтный ограничитель напряжения
Сплошные - расчетные, пунктирные - экспериментальные данные
Рис. 7. Зависимости τ(Ф) для ограничителей напряжения
Следует отметить, что появление излома в зависимости времени жиз-
ни неосновных носителей от дозы облучения объясняется сменой закономер-
ности образования рекомбинационных центров в процессе нейтронного об-
лучения, то есть переход от линейной зависимости к экспоненциальной.
В результате проведенных исследований выяснено, что напряжения
пробоя увеличиваются с повышением дозы облучения независимо от исход-
ного напряжения пробоя. Эти обстоятельства приняты за основу для доводки
напряжения пробоя до требуемого номинального напряжения, как инстру-
мент управления напряжением пробоя. Естественно, что для этого исследо-
вания необходимо было установить зависимость напряжения пробоя от флю-
енса для ограничителей напряжения, имеющих отклонения от номинального
напряжения пробоя (100 В и 200 В). В частности, для сто вольтовых ограни-
чителей напряжения было сформировано 5 групп образцов с напряжением
пробоя 95 В, 96 В, 97 В, 98 В, 99 В по 3÷4 образца в каждой группе. Анало-
гичные группы образцов были сформированы и для двести вольтовых огра-
ничителей напряжения. На рис. 8 показаны зависимости пробивного напря-
жения этих образцов от флюенса нейтронов, из которых следует что, чем
больше отклонение напряжения пробоя от номинального значения, тем
больший флюенс нейтронов требуется, чтобы довести образец до номиналь-
ного напряжения пробоя. То есть, приведены зависимости флюенса нейтро-
нов, которым необходимо облучить ограничители напряжения с заданным
напряжением пробоя, чтобы это напряжение приблизить к его номинальному
значению. Эти зависимости напряжения пробоя от дозы облу-чения можно
использовать как калибровочные кривые для определения флюенса нейтро-
нов, необходимого для «доводки» напряжения пробоя до номинального нап-
52
ряжения.
9 5
9 6
9 7
9 8
9 9
1 0 0
0 ,5
1 ,0
1 ,5
2 ,0
2 ,5
3 ,0
Ф · 1 0
1 4
, Н / с м
2
2
1
U
п р о б
, В
а) диоды 100 вольтовые
1 8 0
1 8 5
1 9 0
1 9 5
2 0 0
0
4
8
1 2
1 6
2 0
2
1
Ф ·1 0
1 4
, Н /с м
2
U
п р о б
, В
б) диоды 200 вольтовые
1- дозы облучения ограничителей напряжения для заданных напряжений пробоя;
2- напряжения пробоя ограничителей напряжения после облучения
Рис. 8. Зависимости оптимальной дозы облучения от
исходного пробивного напряжения ограничителей напряжения
Таким образом, модернизация диффузионной технологии изготовления
и оптимизация параметров радиационным воздействием кремниевых высо-
кочастотных диодов и ограничителей напряжения позволяет снизить техно-
логический разброс эксплуатационных параметров, потери статической
мощности и повысить выход годных приборов.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
1. Разработана технология получения низковольтных ограничителей
напряжения ампульной диффузией из высококонцентрированного источника
мышьяка, обеспечивающая малый разброс пробивного напряжения и низкое
дифференциальное сопротивление.
2. Разработан способ получения омического контакта к кремниевым
силовым диодам, отличающийся высокой адгезией и эффективным рассеяни-
ем тепла. Способ включает напыление на обе поверхности пластины с
р-n-
переходом тонких слоев (0.1÷0.3 мкм) ванадия и серебра, и последующее их
сплавление с посеребренным медным тепловым компенсатором. Этот кон-
такт используется в разработанном блокирующем диоде.
3. Разработана методика отбраковки ограничителей напряжения на
ранней стадии до установки их на корпуса согласно впервые введенного па-
раметра «коэффициента эффективности», основанная на зависимости сопро-
тивления ограничителя напряжения от тока в режиме пробоя.
4. Разработана тепловая модель ограничителя напряжения, позволяю-
щая рассчитать и реализовать оптимальные размеры кристалла и тепловых
компенсаторов, а также объясняющая проявление его свойств как генератора
температурного потенциала и генератора теплового потока.
5. Разработан усовершенствованный двухгенераторный метод измере-
ния напряжения ограничения мощных ограничителей напряжения, в котором
предлагается измерить обратное напряжение и импульсную составляющую,
53
создаваемую от генератора тока. Общая погрешность измерения составляет
~
%
2
, что в три раза меньше по сравнению с известной одногенераторной ме-
тодикой.
6. Разработан модуль защиты радиоэлектронной аппаратуры на основе
ограничителя напряжения, обеспечивающий автоматическое включение-
выключение потребителя при перенапряжениях в цепи.
7. Разработана радиационная технология обеспечивающая оптимиза-
цию времени жизни неосновных носителей и времени восстановления обрат-
ного сопротивления, напряжения пробоя высокочастотных выпрямительных
диодов и ограничителей напряжения.
8. Разработаны инженерные методы расчета обратного тока и прямого
падения напряжения, толщины слоя объемного заряда, позволяющие опреде-
лить оптимальные переходные характеристики высокочастотных диодов при
воздействии гамма и электронного облучения.
9. Разработан ограничитель тока на основе арсенида галлия для защиты
низковольтных ограничителей напряжения с обратимым пробоем до 14 В.
10. Результаты по технологии получения и исследования ограничите-
лей напряжения и высокочастотных диодов, методики исследования их
функциональных параметров внедрены в производство ОАО “FOTON”.
54
55
SCIENTIFIC COUNCIL ON AWARD OF SCIENTIFIC DEGREE OF
DOCTOR OF SCIENCES 16.07.2013.FM/T.12.01 at PHYSICAL-
TECHNICAL INSTITUTE OF SCIENTIFIC-PRODUCTION ASSOCIA-
TION «PHYSICS-SUN», INSTITUTE OF ION-PLASMA AND LASER
TECHNOLOGIES AND SAMARKAND STATE UNIVERSITY
____________________________________________________
SCIENTIFIC-PRODUCTION ASSOCIATION «PHYSICS-SUN»
PHYSICAL-TECHNICAL INSTITUTE
RAKHMATOV AKHMAD ZAYNIDINOVICH
DEVELOPMENT OF SEMICONDUCTOR HIGH-FREQUENCY AND
SUPPRESSOR DIODES MANUFACTURING TECHNOLOGY, OPTIMI-
SATION OF THEIR PARAMETERS UNDER THERMAL AND RADIA-
TION INFLUENCE
01.04.10 – Рhysics of semiconductors
(technical sciences)
ABSTRACT OF DOCTORAL DISSERTATION
Tashkent – 2014
56
The subject of doctoral dissertation is registered at Supreme Attestation Commission at the
Cabinet of Ministers of Republic of Uzbekistan under number
30.09.2014/В2014.5.Т 266
Doctoral dissertation is carried out at the Physical - Technical Institute of Academy of Sciences of
Republic Uzbekistan and JSС «FOTON».
The full text of doctoral dissertation is placed on web page of Scientific council
16.07.2013.FM/T.12.01 at Physical - Technical Institute, Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies
and Samarkand State University to the address
kengash.fti.uz
.
Abstract of dissertation in three languages (Uzbek, Russian, English) is placed on web page to ad-
dress
kengash.fti.uz
and on Information-educational portal “ZiyoNet”
to address
www.ziyonet.uz
.
Scientific Consultant:
Karimov Abdulaziz Vakhitovich
doctor of sciences in physics and mathematics
, professor
Official opponents:
Ulimov Viktor Nikolaevich
doctor of sciences in technics
, professor
Kasimakhunova Anora Mamasadikovna
doctor of sciences in technics
, professor
Tagaev Marat Baymuratovich
doctor of sciences in technics
, professor
Leading organization:
Tashkent State Technical University
Defense will take place on «___» _____________2014 at _____ at the meeting of one-off scien-
tific council on specialty 01.04.10 (technical sciences) on the base of scientific council
16.07.2013.FM/T.12.01 at Physical Technical Institute, Institute of Ion-Plasma and Laser Technologies
and Samarkand State University at the following adress: 100084, Uzbekistan, Tashkent, 2B Bodomzor
street. Phone/fax: (+99871) 235-42-91, e-mail:
lutp@uzsci.net
.
Doctoral dissertation is registered in Library at Physical Technical Institute № 01, it is possible to
review it in Library (100084, Uzbekistan, Tashkent, 2B Bodomzor street. Phone/fax: (+99871) 235-30-
41.
Abstract of dissertation sent out on «___» ______________ 2014 year.
(mailing report _______ on «___» ______________ 2014 year).
S.L. Lutpullayev
Chairman of Scientific council
on award of scientific degree of doctor of sciences
doctor of sciences in physics and mathematics
, professor
M.N. Tursunov
Scientific secretary of Scientific council
on award of scientific degree of doctor of sciences
doctor of sciences in technics
I.G. Atabayev
Chairman of Scientific seminar at Scientific council
on award of scientific degree of doctor of sciences
doctor of sciences in physics and mathematics
, professor
57
ANNOTATION OF DOCTORAL DISSERTATION
Topicality and demand of the subject of dissertation.
According to the
Resolution of the President of the Republic of Uzbekistan PQ-1442 «On the priori-
ties of development of industry of Uzbekistan in 2011-2015» from December 15,
2010 rising of industrial manufacturing efficiency is overriding problem. Thereby,
the consistent decrease of manufacturing costs and the cost value of semiconductor
high-power devices (voltage suppressors, high-frequency rectifier diodes) which
are manufactured by JSC «FOTON», provides for studies, aimed at improvement
of their parameters and reliability as well as technological optimization, are the
most important pre-requisites facilitating increase in competitiveness of manufac-
tured devices and ensuring existing markets and new markets.
In the field of the protection of electronic equipment and prevention of fail-
ure of electrical equipments by pulse overvoltages among scientists of leading for-
eign countries USA, Canada, Holland and Japan tasks of research and development
of high-voltage suppressors, as well as stabilizing devices based on power diodes
are demanded.
These power diodes are widely used in power conversion devices, power
supply systems and industrial process control systems. For their manufacturing dif-
fusion technology of doping of silicon with boron and phosphorus is used, which is
widely used for the manufacture of high-voltage diodes. However regarding the
low-voltage voltage suppressors does not allow to get low differential resistance
which can be obtained using the impurity providing a dramatic difference of the
carriers concentration at the boundary of the p-n junction. Solving this problem re-
quires new physical approaches that enable to obtain the high-concentration source
– diffusant, which can be manufactured by use of arsenic. Moreover the efficiency
of the power diodes is determined by the sharpness of the characteristics at break-
down voltages and nominal coefficient of suppression. In operating mode, power
diodes under the influence of powerful pulses generate heat and their optimization
is possible based on the physical analysis of heat transfer throughout the length of
the structure, including the contact areas.
The demand of dissertation is derived from the need to implement advanced
technologies, devices for grading and protection of electronic equipment, improve
withstand impulse power that is associated with tasks requiring a focused approach
to problems of reduction the technological failures and increase reliability, extend
the scope of applications of power diodes, and reduce dynamic power losses.
This dissertation aimed at development of the manufacturing technology of
low-voltage voltage suppressors with small scatter of the breakdown voltages and
low differential resistance in both forward and reverse directions, development of
radiation technology providing optimization of the breakdown voltage, increasing
performance and improvement of quality of high-frequency diode.
At the same time, in a number of cases, these devices themselves need in
protection from unexpected increase of current in circuit, which requires develop-
ment of current limiters with characteristics reversible after influence of pulse of
current. Based on the abovementioned, it is timely and actual to study in a compre-
58
hensive way both parameters of selected samples under research, and physical as-
pects of the production technology (for example, diffusion and radiation methods),
aimed at design and technology optimization at manufacturing of the selected ob-
jects under research and, hence, obtaining optimal combi-nation of their parame-
ters, including those related to radiation hardness requirements.
Conformity of research to priority directions of development of science
and technologies of the Republic of Uzbekistan.
This work was performed in ac-
cordance with the priority directions of development of science and technology of
the Republic of Uzbekistan PAS-3 – «Power engineering, energy-saving and re-
source-saving, transport, machine engineering and instruments industry; the devel-
opment of modern electronics, microelectronics, photonics and electronic devices».
Review of international scientific researches on the subject of disserta-
tion.
Research of manufacturing technology and operational parameters of the
power semiconductor diodes of various types (voltage suppressors, stabilitrons,
thyristors, high frequency rectifying-suppressing diodes) considering requirements
in electronics, automotive industry, are gaining momentum and some success are
achieved in the USA, Canada, England, Holland, China and Russia, and others.
In publications of some major companies such as Philips Semiconductors,
STMicroelectronics, Littelfuse, Moeser Electronics, ON Semiconductor, SGS-
Thomson, Centre «СЭЛТ» and etc., it is noted that ongoing research are aimed at
development of power diodes with improved parameters that satisfy the overgrow-
ing demands of the consumer market. In research much attention is given to rele-
vance and demand in increasing the reliability and optimization of operating pa-
rameters of power semiconductor devices.
In this regard, the development of new manufacturing technologies of power
devices and modernization of existing technologies are in the attention of the lead-
ing research centers, in particular, by the developers of the company Sigetronics
Inc. is shown that the applying of epitaxial technology provides a low-voltage sup-
pressors with parameters exceeding the parameters of analogues based on the dif-
fusion technology. Another field of research is the study of the effect of radiation
exposure on the parameters of power diodes, which allows optimizing the parame-
ters of diodes after technological processes. For example, by scientists from Swit-
zerland through the radiational doping palladium to the base region of a silicon
power diode the lower values of the minority carrier lifetime were obtained than by
doping platinum.
Degree of study of problem.
Recently, experimental and theoretical works
dedicated to optimization of silicon-based high-frequency and suppressor diodes
parameters and production technology have been carried out. Majority of them
aims at operation parameters optimization either by means of design and circuit
concepts, or by means of combined technologies (laser technologies in combina-
tion with diffusion technologies, ion implantation with radiation technologies).
However, upgrade of existing diffusion technology and design of optimal fixing,
high-frequency and voltage suppressor diodes remain disregarded. Successful up-
grade of existing technology and optimization of semiconductor device parameters
will allow improvement of both device parameters, and feasibility of silicon
p
-
59
n
,
р
p-n
-
and
p
p-nn
-structure production without significant changes in their
manufacturing.
Hence, requirement to their reliable and failure-free operation becomes
higher. Besides, one electronic circuit often uses two pairs of voltage suppressors,
or even more, provided that their parameters are identical. However, during tech-
nological production of structures, defects can be formed resulting in deviation of
their operational characteristics. In this connection, it is important to develop a
technology for production of high-frequency and voltage suppressor diodes with
specified parameters.
Studies available at present do not contain information related to production
technology of high-frequency and voltage suppressor semiconductor diodes with
charge carrier concentration gradient in rectifying junction by diffusion technology
and related to identification and optimization methods of their operational parame-
ters which is actual problem to research.
Response time can be decreased and original structure of power devices can
be made more reliable by application of radiation-technological processes. At the
same time, when radiation influence is selected, one has to determine the optimal
combination of parameters for pieces of irradiated equipment. As a result, the main
challenge is to develop general approaches to selection of irradiation, which pro-
vides optimal combination of parameters for diodes with
p-n
junction manufac-
tured by using various technological methods (planar technology, mesa-diffusion
etc.).
Based on their physical essence, voltage suppressors are expected to be
highly radiation-resistant. However, this topic is not studied well in the available
references dedicated to technological approaches to calculation of radiation resis-
tance. Therefore, development of such methods is also important technological
task, that when solved allows wide application of these devices (and, respectively,
expansion to targeted markets) without expensive experiments involving irradia-
tion sources that are not always available.
Another problem is that known methods designed for studies of high-power
devices – voltage suppressors, high-frequency rectifier diodes, do not satisfy accu-
racy requirements, whereas application of known methods to determine parameters
of semiconductor devices are incorrect.
Thus, presently known studies do not contain information about optimal
technologies and optimization of high-frequency and voltage suppressor diode pa-
rameters,
which is important problem to study at present.
Connection of dissertational research with the plans of scientific-
research works
is reflected in following project: A3-FА-0-10-440 «Development
of thermal and electric pulse processing methods aimed at increase of yield at pro-
duction of lacking groups of semiconductor instrumentation (JSС «FOTON»)» Re-
search and Development State program at the PTI SPA «Physics-Sun».
Purpose of research
is development of optimized diffusion technology
aimed at obtaining silicon diode structure with reduced differential resistance and
60
enhancement of quality and reliability of high-frequency rectifier diodes and volt-
age suppressors under radiation.
To achieve this goal the following
tasks of research
are formulated:
to develop technology of arsenic high-concentration diffusion in silicon in
order to produce low-voltage structures with high gradient of impurity concentra-
tion at the edge of
p-n
-junction, so that these structures can stand short-term high-
power overvoltage pulses, than those doped with phosphorus;
to develop method for obtaining of heat-resistant ohmic contact with mini-
mal transfer effect at the edge between material contact with semiconductor;
to develop a universal physically-feasible method aimed at voltage suppres-
sor operation characteristics measurement and advanced methodology for voltage
limitation determination with taking into account measurement modes and voltage
suppressor efficiency coefficient;
to develop a voltage suppressor heat model taking into account pulse power
output and power absorption processes taking place in relevant parts of diode de-
pending on its connection mode;
to determine optimal technological irradiation environment and modes in
order to provide operation characteristics optimization for power rectifier and sup-
pressor diodes, in which
p-n-
junctions are manufactured by different methods;
to study effects of irradiation on breakdown voltage and limitations of volt-
age suppressors for identification of their operation characteristics;
to develop gallium arsenide based current suppressors designed for voltage
suppressor protection.
Objects of research
are low- and high-voltage suppressors with
p
+
n
+
,
p
+
-n-
n
+
, and
p
+
-p-n-n
+
-structures, silicon-based high-frequency rectifier diodes and gal-
lium arsenide based current limiters.
Subject of research
- technology for manufacturing of high-frequency di-
odes and voltage suppressors with improved characteristics, studies of radiation in-
fluence on their operation characteristics.
Methods of research.
In the process of research were used methods for cur-
rent-voltage and capacity-voltage characteristics; probing methods for surface re-
sistance determination, differential conductivity methods, and simulations.
Scientific novelty of dissertational research
consists in the following:
for the first time, technology is developed for manufacturing of low-voltage
suppressor (less than 7 V) based on silicon
р
+
-n
+
- structures doped with arsenic to
apply for protection of power supply units;
for the first time, the method was developed for obtaining high-power sili-
con rectifier-suppressor diodes (10A) based on silicon
р
+
-p-n-n
+
-structures with
effective heat-removing contacts, which can be applied as rectifier, suppressor and
blocker diodes;
the method is developed for obtaining stable to temperature ohmic contact to
high-power diode with
р
+
-р-n-n
+
-
junction composed of three layers, one of which
is tungsten and two others are silver layers, annealed at 450
,
С
о
and copper disk
galvanically covered with silver is selected as a heat-removing compensator;
61
universal double-generator method is developed to measure voltage suppres-
sor characteristics with three times lower errors compared to those for single-
generator method;
for the first time, current limiter with controlled operation current is de-
signed based on gallium arsenide and contains first type conductivity semiconduc-
tor base, second type conductivity thin layer with two ohmic contacts located at
some certain distance from each other and supplied with output electrodes;
the method is developed to determine voltage limitation efficiency via di-
ode’s resistance dependence on reversed current density in the region of break-
down in a wide range of voltage values;
heat models are developed based on heat transfer and heating of
p-n
-junction
when it is connected and pulse voltage is applied, assuming that the junction is
heat potential and heat flow generator;
technological method is developed aimed at determination of appropriate ir-
radiation mode, allowing optimal combination of voltage suppressor and high-
frequency diodes parameters;
for the first time, protection device for electronic equipment is designed with
option to indicate instant of voltage suppressor failure.
Practical results
of research
consist in the following:
specifications for manufacturing of low-voltage suppressors with conductiv-
ity close to that of metal conductivity at highly-doped regions, including pioneer-
ing process of arsenic diffusion in silicon;
advanced compensation method to study voltage suppressor pulse character-
istics, and new method to determine their voltage limitation efficiency based on
dependence of current on differential resistance;
technological and design aspects for manufacturing of high-power rectifier-
suppressor blocking diodes, that can provide optimal withstand power;
methods for optimization of high-frequency and suppressor diodes parame-
ters, and electronics protection devices characteristics by current and voltage;
technological calculations allowing determination of the most appropriate
materials and design concepts for voltage suppressors in conformance with con-
sumer demands, aimed at expansion of distribution and enhancement of competi-
tiveness;
application of gamma- and electron irradiation results in high-frequency rec-
tifier diodes production allows selection of optimal irradiation mode for each type
of diodes and, thus, allows decrease in duration of technological process and in-
crease in rate of yielded worthy products;
technological method to calculate main parameters of high-frequency recti-
fier diodes after irradiation allows one to predict parameter of product after irradia-
tion, to select optimal radiation dose and, thus, to increase reproducibility of tech-
nological process and worthy devices yield.
Reliability of obtained results
is confirmed by the use of well-known sci-
entific methods at investigation of physical processes, standard and tested in the
manufacturing factory techniques and research. Results and conclusions are justi-
fied on physical representations based on theoretical and experimental data. The
62
reliability of the experimental data is provided by using modern tools, measuring
and processing techniques.
Theoretical and practical value of results of research.
The obtained sci-
entific results facilitate in-depth physical understanding of temporal and heat proc-
esses taking place in silicon
р
+
-
n
+
-
р
+
-nn
+
-
and
р
+
р-nn
+
structures under influence
of electric pulse and irradiation. The developed voltage suppressors, rectifier-
suppressor blocking diodes are used for electronics protection from overvoltage, in
direct and alternating electric current circuits, whereas high-frequency diodes are
used in equipment designed for rectifying and energy transformation.
Realization of results of research.
During performing the dissertation were
obtained 3 patents of the Republic of Uzbekistan (№ IAP 04599 from 04.10.2012
y., № IAP 04721 from 03.05.2013 y., № IAP 04571 from 22.08.2012 y.) and pat-
ent of the Russian Federation (№ 2522786 from 21.05.2014y.). The results of re-
search manufacturing technologies of the high-frequency rectifier-suppressor di-
odes and low-voltage voltage suppressors, as well as methods for optimizing the
characteristics of voltage suppressors are developed and implemented in serial
production at SJC «FOTON» with the economic effect 78 million Uzbek Sums per
year (Implementation act of «Uzeltechsanoat» Association from 12.12.2013 y).
Approbation of work.
Main results of the dissertation were presented and
discussed at the 15 International and Republican Conferences, including: Modern
Information and Electronics Technologies (Odessa, 2011); (Odessa, 2013); «Fun-
damental and applied Topics of Physics» (Tashkent, 2010); «Modern Information
and Electronics Technologies» (Odessa, 2010, 2013); «Young Scientists Conf. Op-
tics and High Tech. Matter. Sci. SPO-2010 (Kyiv, 2010); «Modern mining tech-
niques and technologies and strategies for their development» (Navoi, 2010); II-nd
International Conference on optical and photovoltaic phenomena in semiconductor
micro- and nanostructures» (Fergana, 2011); «International Conference Nuclear
science and its application» (Samarkand, September 25-28, 2012).
Main results of the dissertation were presented and discussed at the enlarged
seminar (May 2014) on speciality of physics of semiconductors at the Physical-
Technical Institute SPA «Physics-Sun» AS RU.
Publication of results.
Obtained results are presented in 35 scientific publi-
cations, of them 17 рapers are published in international journals and 4 papers are
in Republican journals, 4 patents, 13 proceedings of International and Republican
conferences.
Structure and volume of dissertation.
Dissertation consists of introduc-
tion, five chapters, conclusions and list of references. It is presented on 203 printed
pages, containing 88 figures, 12 tables, including 139 items of references.
MAIN CONTENTS OF DISSERTATION
In the introduction
importance of the topic and title of the dissertation are
substantiated, objectives and tasks, scientific novelty and application value of the
work are formulated, main points to defend are outlined.
63
In the first chapter
, status and problems related to optimization of high-
frequency diode and voltage suppressor parameters are reviewed based on the data
accumulated in literature. Design and circuit concepts are analyzed to find ways for
high-power diode parameter optimization, and low-voltage high-power
p
-n
-
junction diode manufacturing. Known methods to measure parameters of voltage
suppressors and optimize their efficiency, as well as radiation methods to optimize
parameters of semiconductor devices are investigated. Conclusion is drawn that
development of high-concentrated arsenic diffusion in silicon will make it possible
to enhance electric characteristics of low-voltage structures with
p
-n
-junction,
compared to those doped with phosphorus. Such characteristics of high-frequency
diodes and voltage suppressors as breakdown voltage, response time can be opti-
mized by irradiation.
In the second chapter
the physical and technical aspects of low-voltage
suppressors manufacturing by arsenic diffusion from an infinite source to silicon,
high-power rectifier-suppressor diodes manufacturing technology, method for ob-
taining of ohmic contact with improved adhesion to semiconductor’s surface, main
characteristics of high-power diodes based on silicon
p
-n
, p
-n-n
и p
р-n-n
-
structures are presented.
Based on physical and technological aspects of low-voltage suppressors
manufacturing by means of tube diffusion of arsenic to silicon, the diffusant com-
position (450 mg
As
, 5 g
Si
) is selected for the first time to provide higher surface
concentration and smaller deviation in breakdown voltage of low-voltage
p
-n
-
junctions, on the contrary to the traditional phosphorus diffusion, as shown in the
Table 1.
Table 1
Root-mean square deviations in р-п junction breakdown
voltage for different diffusion sources
base
,
Ohm
cm
150 mg
As
U,V
200 mg
As
U,V
350 mg
As
U,V
Additional
alloy*
U,V
250 mg
As
,
5 г
Si
U,V
450 mg
As
,
5 г
Si
U,V
0.001
1.23
0.67
0.54
0.25
0.10
0.08
0.002
1.17
0.50
0.83
0.37
0.15
0.18
0.003
0.81
0.28
0.35
0.30
0.18
0.16
0.005
0.30
0.23
0.37
0.32
0.23
0.18
0.008
0.54
0.40
0.41
0.47
0.33
0.24
*additional alloy is a powder of p-type silicon annealed in vacuum with arsenic at 1000
0
С for
48 hours and consequently crushed in pounder
Comparison of breakdown characteristics for low-voltage suppressors doped with
arsenic, phosphorus, as well as those of foreign units demonstrated that for voltage
suppressor manufactured by arsenic diffusion one can observe a sharp transition
from low-conductive to high-conductive state (Fig. 1), which is peculiar to effec-
tive voltage suppressors. In order to reduce power losses in studied diode samples
related to contacts, it is suggested to use tungsten with double-layered sprayed sil-
ver as an ohmic contact instead of nickel and gold. Because of better adhesion and
thermal properties of the suggested materials it can also be used in pro-duction of
64
rectifier-suppressor blo-cking diodes.The newly developed technology for produc-
tion of rectifier-suppressor blocking diode with
p
р-n-
n
-
structure involves
manufacturing of
р
-type conductivity region and
n
- and
р
-type conductivity
Fig. 1.
Dependence of dif-
ferential resistance of voltage
suppressor on reverse current
highly-doped regions by means of diffusion, spraying to both surfaces of thin tung-
sten and silver layers (0.1÷0.3 μm), annealing them with silver plated copper disk
instead of tungsten disk in the well-studied diode. On the contrary to the similar
model, improved heat-removing characteristics of the developed diode at currents
up to 10 A prevents diode heating, whereas reverse currents are more heat-resistant
and
р-п
-junction breakdown is reversible. In high-voltage suppressors with
p
-n-
n
-
structure obtained by boron and phosphorus diffusion in
п
-type con-ductivity
silicon a breakdown voltage is shower-like, and required breakdown values can be
obtained either by selec-ting specific resistance of the base region or by combining
voltage in low- and high-voltage suppressor, whereas power can be measured by
their parallel connection.
Third chapter
is dedicated to
novel methods to study main characteristics
of high-power diode and electronic equipment. Proposed method of voltage limita-
tion efficiency determination for diode structures is described, technical design re-
port of improved installation designed for measurement of voltage suppressor’s
main characteristics is presented, and proposed field-effect diode and electronic
equipment protection device operation is described in details.
Based on the relation of limitation coefficient, which can be determined in
pulse mode as
br
pulse
U
U
Ê
/
lim
lim
with introduced efficiency coefficient at given cur-
rents it is proposed to reject low-voltage suppressors (VS), which do not match
technological requirements at an early stage before putting it in casing. Efficiency
coefficient shows voltage change rate in VS at reverse current change as
br
br
D
D
I
I
R
R
R
R
Z
ln
ln
)
/
ln(
)
/
ln(
lim
max
lim
max
,
(1)
that is the less voltage changes in certain range of current, the higher quality of VS.
Indeed (Table 2), comparison of VS’s characteristics depending on doped impurity
demonstrates that samples manufactured by arsenic doping have less deviation in
breakdown voltage values and withstand higher pulse power, than phosphorus-
doped samples.
It is worth of mentioning that parameters of high-power voltage suppressors
are measured by means of improved double-generator method with lower error
compared to the known direct method that does not provide required level of error
65
Table 2
Parameters of VS’s depending on doped impurity
U
br
, V
U
br
, V
№ of
sample
1 mA
4 mA
Z
К
lim
Р
и,
kW
1 mA
4 mA
Z
К
lim
Р
и,
kW
7.5 V arsenic-doped VS
8 V phosphorus-doped VS
1
7.35
7.52
0.99
1.19
1.85
8.35
9.0
0.87
1.4
1.5
2
7.39
7.53
0.99
1.18
1.9
8.35
8.8
0.9
1.5
1.6
3
7.38
7,58
0.98
1.21
1.85
8.14
8.9
0.86
1.38
1.5
4
7.4
7.6
0.9
1.18
1.85
7.7
8.7
0.84
1.42
1.6
5
7.44
7.62
0.99
1.24
1.85
7.9
8.6
0.86
1.39
1.6
6
7.4
7.65
0.99
1.22
1.78
8
8.8
0.85
1.4
1.58
7
7.6
7.75
0.98
1.22
1.8
8.2
8.9
0.87
1.38
1.5
measurement because of absolute error dependence on current density.
Double-generator method is based on voltage limitation determination
mathematical model
U
lim
=U
br
+r
d
·I
max
,
(2)
where
r
d
– differential resistance at breakdown region. Since variable component of
voltage limitation for all suppressor diodes does not exceed 20
%U
lim
, the
U
lim
pa-
rameter in the proposed measurement method is replaced by measurement of direct
reverse voltage
U
br
and low pulse component of
U
^
= r
d
·I
max
.
U
br
is measured by direct current voltmeter (combined SH-300 unit with er-
ror not higher than 1%). Power supply unit PSU1 provides maximal pulse current
I
max
and output voltage
max
0
lim
max
0
lim
1
)
(
5
1
)
(
)
(
I
R
R
U
I
R
R
U
U
U
measur
measur
br
PSU
(3)
Required power at power supply unit
ΔP
PSU
=0.8U
lim
·I
max
is less than that of
direct measurement method power supply unit. Power supply unit PSU2 provides
direct reverse voltage and breakdown voltage
U
PSU2
=U
br
with error not higher than
2%, which can be measured and controlled by direct voltage voltmeter (
V
D
),
δ
VD
=1%. As a result, total error of measurement for voltage limiting novel method
is up to
%
2
.
One of the purposes of developed VS’s is to provide certain level of voltage
at the input of protected circuit. However, when permissible threshold voltage
(breakdown) is exceeded voltage suppressor can fail to operate due to irreversible
breakdown. Therefore, current limiter is required for its protection to provide cer-
tain limited current. These requirements can be met by using protection unit and
current limiter.
The electronic equipment protection unit is developed for the first time and
is designed to prevent different electronic equipment (computers, TV and others)
and its components like voltage suppressors from operation failure.Electronic
equipment is connected to the developed unit via symistor controlled by light-
emitting diodes giving light when voltage jumps in circuit, as shown in Fig. 2.
Its operation is based on the prin ciple that light from light-emitting diode is
directed to double-barrier photodiode, photoelectric current in which causes blan-
66
king of symistor and electronic
equipment switching off. The equip-
ment will be switched on again as
soon as the pulse finishes.The semi-
conductor field-effect diode, devel-
oped for the first time, is peculiar
with electric current characteristics
and is able to provide current invari-
ability in a wide range of voltage val-
ues from saturation region to break-
down region, which makes it to be a
current stabilizer.
Fig. 2. Electronic equipment
protection unit
This feature can be applied to prevent low-voltage suppressor irreversible
breakdown. Proposed field-effect diode operation is identical to that of field-effect
transistor, source of which is bridged to transistor’s gate. That is it can be consid-
ered as a two-terminal device connected in series to voltage suppressor. Electric
current value in a wide range of voltage values at the saturation region is controlled
by light emission.
In the forth chapter
temporal characteristics, heat transfer in stationary
mode, pulse power emission and absorption in dynamic mode are analyzed.
In stationary breakdown mode, heat transfer in VS can be explained by one-
dimensional model due to propagation of heat released in the volume charge region
(VCR) along the axial component to contacts and is described by the following dif-
ferential equation
2
2
'
dV
t
dP
dx
T
d
dt
dT
c
v
(4)
where:
λ
– specific heat conductivity;
с
v
– specific heat capacity;
'
– matter
density;
P(t)
– power;
V
– volume of studied region. For threshold values of
g
ca
Ò
D
Ò
sin
)
2
/
(
the junction temperature does not depend on area of heat-removing
unit, but depends on its mass
'
C
t
R
Р
Т
pulse
T
(5)
where
pulse
t
- pulse width,
'
C
- heat capacity of casing.
At sharply increasing pulse of reverse current applied to voltage suppressor
it has a capacitive current running though and, as soon breakdown voltage is
reached it is connected. The time required for its complete connection is deter-
mined by the following expression
e
B
n
p
s
connect
t
j
N
qW
j
E
t
2
max
0
(6)
67
which contains the terms as
p-n
-junction barrier capacitance charging time
j
E
jS
W
E
W
S
I
U
U
C
t
s
n
p
n
p
n
p
n
p
s
br
V
RC
max
0
max
0
max
1
2
)
(
(7)
shockwave propagation time
j
N
qW
W
t
B
n
p
shock
n
p
shock
2
2
(8)
and energy relaxation time
sec
10
~
12
e
t
.
VS connects as soon as the standard pulse is applied, emits heat energy,
which is determined by applied power and time of switching
connect
connect
connect
W
q
IR
t
R
I
Pt
Q
0
0
2
2
1
2
2
(9)
At the same time, the heat energy, emitted in depleted region is proportional to in-
crement of temperature, specific heat capacity, semiconductor density and depleted
region volume
W
v
ext
W
W
c
T
T
Q
V
0
,
(10)
The temperature of the
p-n
-junction depleted region after connection is determined
by the current, resistance of junction and charge product ratio to heat capacity of
the depleted region
W
W
T
connect
T
connect
W
v
connect
îêð
W
C
IRq
C
t
R
I
V
Rt
I
T
T
2
2
ñ
2
0
2
2
(11)
The temperature voltage (
р
Т
) generated by the VS is determined by the following
expression
pulse
t
connect
pulse
окр
р
e
I
q
T
T
T
2
max
max
2
(12)
The temperature potential at the linear part of temperature growth is determined by
following expression:
t
C
q
R
C
q
R
t
I
T
T
T
Tw
w
Tw
w
i
2
2
)
(
0
0
0
(13)
Temperature of the depleted region in the
p-n
-junction becomes maximal after ac-
complision of the process with values determined by following expression:
2
0
0
Tw
w
m
w
m
C
q
R
I
T
T
T
(14)
The temperature of
p-n-
junction falls faster than deacresing current when di-
ode is in connected mode, that is why, the
p-n
-junction can be considered as tem-
perature voltage generator. According expression (9) which described the heat en-
68
ergy in dynamic mode the heat current determined by ratio of current to heat resis-
tivity:
connect
t
Rt
I
dt
dQ
Ф
2
max
1
(15)
and linearly dependent from connected time and reaches its maximal value
at
t=t
connect
:
P
R
I
Ф
2
max
max
.
(16)
By assuming that the current decreases exponentially with decrease of pulse
pulse
t
e
I
I
max
, and heat energy
pulse
t
e
RtI
Q
2
2
max
, one can have for heat flow the fol-
lowing expressions
pulse
t
t
pulse
t
t
e
RI
e
RI
t
e
RI
dt
dQ
Ф
pulse
pulse
pulse
2
1
2
2
2
max
2
2
max
2
2
max
2
or
pulse
pulse
t
t
Pe
e
RI
Ф
2
2
2
max
2
.
(17)
Since the heat process is determined by thermal constant
Tw
Tw
T
C
R
1
, where
br
Tw
connect
Tw
U
C
Rq
R
2
1
then the heat flow can be determined by the following expression
2
2
T
t
Рe
Ф
.
(18)
Thus, under influence of standard pulse the depleted region in
p-n-
junction
of suppressor diode can be considered as generator of heat flow, which passes
through its edge at wave-front of pulse and when connected reaches maximal value
equal to the applied power.
In the fifth chapter
influence of radiation on rectifier diode and voltage
suppressor operation characteristics are analyzed. Fig. 3 and 4 show section of ir-
radiated high-frequency planar diode and diffused-junction diode. Samples se-
lected for studies had minimal deviation in voltage drop, direct and reverse current,
reverse voltage, as well as in reverse current recovery (
U
F
,
I
F
,
I
R
,
U
R
,
t
rr
), where
U
F
=(0.92÷0.93) V (for
I
F
= 1A,
I
R
= (15±2) nA,
U
R
= 200 V);
t
rr
≤ (150±10) 10
-9
sec (for
I
F
/I
R
= 1 and at count start at 0.1 A).
а) top view
б) section of the diode
Fig. 3. Section of planar high-frequency diode
69
The samples were irradiated with gamma in the gamma-facility of the INP AS RU
and with electrons in the U-003 electron accelerator at JS «FOTON». Gamma-
radiation average energy at irradiation of diodes in the gamma-facility corresponds
to Co
60
(~1.25 MeV) gamma-source with intensity of ~10
12
cm
-2
sec
-1
. Accuracy in
determination of gamma-radiation flow (
Ф
γ
) applied for irradiation of the diodes
occurred to be 5 %. Average energy of electrons applied for irradiation of the di-
odes occurred to be (4÷4.5) MeV with intensity of ~ (2.5÷3) 10
11
cm
-2
sec
-1
. Elec-
tron fluence (
Ф
е
) applied for irradiation of the diodes was determined with accu-
racy of ~15%.
For high-frequency planar structures Δ(1/
t
p
) is proportional to gamma-
radiation flow (
Ф
γ
) and electron fluence (
Ф
е
) Δ(1/
p
)
γ
=
Kt
γ
·Ф
γ
and Δ(1/
p
)
e
=
Kt
e
·Ф
е
.
Such dependence of damageability constant on irradiation dose according to the
Shockley-Reed recombination theory is related to A-centre located at the distance
of ~ 0.17 eV from the bottom of conductivity zone. The damageability constants
calculated based on experimental data are
equal to
Kt
γ
= 3.35·10
-11
cm
2
/sec and
Kt
e
= 2.5·10
-8
cm
2
/sec and have values very
close to data published in literature.
The experimentally observed reverse current values
I
r01γ
and
I
r01е
can be
found in the range of 3.7∙10
-8
A to 5∙10
-8
A, which is quite close to the calculated
maximal values
A
I
rs
9
max
10
50
. Weak dependence of reverse current (increase
by 15÷20%) on the gamma-radiation dose (fluence)
Ф
γ
= (2÷14)·10
17
cm
-2
and
electron dose (fluence)
Ф
e
= (2.5÷20)·10
14
e/cm
2
can be related to formed E-
centers located at
E
m
= - 0.4 eV from the bottom of conductivity zone. Reverse cur-
rent after gamma-irradiation from Cо
60
occurs to be 15%÷20% less than that for
irradiation with electrons with energies of (4÷4.5) MeV. It means that gamma-
irradiation is more optimal method for irradiation than irradiation with electrons.
The dependence of voltage drop on reverse resistance recovery time
U
F
=
f(
t
rr
) co-
incides for the both types of radiation, which means that the both radiation meth-
ods (Cо
60
gamma-irradiation and irradiation with electrons with energies of 4÷4.5
MeV) are identical in terms of dependence between
t
rr
and
U
F
.
As the irradiation
dose grows the voltage drop increases up to 1.2 V, whereas the reverse resistance
recovery time falls from 150 nsec to 10 nsec, which enhances response time of
suppressor diodes.
Fig. 4. Geometrical cut diffusion high-
frequency diode
High-frequency
diffused-
junction diodes with minimal
deviation in studied parameters
were irradiated with gamma and
electron radiation. Direct volt-
age drop
U
F
= 0.75÷0.8 V at di-
rect current
I
F
= 10 A, reverse
current
I
R
~ 0.5÷0.7 μA and
0.7÷1.0 μA at reverse voltage
U
R
= 100 V and 200 V, respec-
tively, reverse resis-tance reco-
70
very time
τ
rr
≤ 2.8±0.2∙10
-6
sec at
I
F
= 1 A,
I
F
/
I
R
= 1 and reverse current count start
at 0.1A.
Dependence of Δ(1/
t
p
) on
Ф
γ
and
Ф
е
has saturation, which is the evidence
that damageability constant decreases with increasing flow of both gamma- and
electron radiation. Such dependence can be qualitatively explained by increasing
Frenkel defects annihilation on structure defects at high-intensity radiation flows.
Caused by radiation dose growth, the voltage drop increases linearly and can be
described by the following expression
)
)
0
(
)
1
(
1
)
0
(
)
1
(
2
1
(
2
/
0
0
L
d
n
p
бro
б
e
p
b
bn
p
b
bn
L
d
L
U
U
,
(19)
obtained with accounted distribution of impurities in
p-n
-junction
Δp
(x) ≈ Δ
p
(0)∙exp(-x/
L
p
)
(20)
and
Δ
p
(x) ≈ Δ
p
(
d
)∙exp[(x-
d
)/
L
p
], (21)
where
U
бro
= (
I
f
·ρ·б·d
)/
S
pn
.
The experimental dependence of voltage drops on gamma-radiation dose
(fluence) up to
Ф
γ
= 1.5·10
18
cm
-2
and electron radiation dose (fluence) up to
Ф
e
=
9·10
14
e/cm
2
grows linearly from 0.77 to 0.9 V and is in good agreement with cal-
culated data. Reverse current dose dependence of high-frequency diffuse-junction
diodes for gamma- and electron irradiation changes linearly
I
r
=K
Irγ(e)
·Ф
γ(e)
+ I
ro
(22)
with the coefficient of reverse current radiation-caused change equal to 1.2∙10
-18
μA∙cm
2
and 1.6∙10
-15
μA∙cm
2
for gamma- and electron irradiation, respectively,
I
ro
– reverse current before irradiation. The experimental values of the coefficient of
reverse current radiation-caused change and data calculated by means of the fol-
lowing expression
dФ
dM
V
n
n
n
n
V
V
n
n
K
p
p
n
n
p
p
t
0
1
0
0
/
/
)
/
1
(
)
/
1
(
(23)
as shown in the Table 3, are within the range of its possible values, determined by
concentration of oxygen. These results support assumption that the E-centre deter-
mines with sufficient probability the value of reverse current in silicon diffuse-
junction diodes irradiated with gamma-radiation (
Ф
γ
) and electron fluence (
Ф
е
).
Table 3
Coefficients of reverse current radiation-caused change
K
Irγ
∙10
18
, μА∙cm
2
K
Ire
∙10
15
, μА∙cm
2
N
o
=5∙10
17
cm
-3
N
o
=1∙10
18
cm
-3
Experimental
value
N
o
=5∙10
17
cm
-3
N
o
=1∙10
18
cm
-3
Experimental
value
1.4
0.7
1.2
1.7
0.4
1.6
71
It is demonstrated that gamma- and electron irradiation of high-power sili-
con diffused-junction diodes are equivalent in terms of relation between reverse
resistance recovery time, direct voltage drop and reverse current.
Based on studied characteristic parameters of VS’s irradiated with neutron
fluences (up to 3∙10
15
cm
-2
) peculiarities are discovered in life-times of minority
charge carriers, in drops of voltage and breakdown, in decrease of volume charge
layer thickness and in the ways for their optimization. Voltage suppressors with
voltage limitation
U
lim
= 50 V and 200 V containing
р
+
рn
+
-structure manufactured
by means of diffusion technology are also studied. Samples are irradiated with
neutrons in the IIN-3M Research Reactor. Neutron fluence with energies E > 3
MeV is estimated by means of S
32
sulphur indicators with consequent normaliza-
tion to (based on known IIN-3M reactor’s spectrum) neutron fluence with energies
E ≥ 100 keV. Average energy of neutrons occurred to be ~ 1.5 MeV, and dose
measurement error occurred to be ± 20%. Collection of samples consisted of 20
VS’s of each type are irradiated with consequently measured parameters men-
tioned above. These collections of samples are divided into 5÷6 batches (3÷4 VS’s
in each batch), and each of the batches is irradiated in two stages (by two flows of
neutrons) with consequent measurement of VS’s parameters after every irradiation
stage.
Based on the studied influence of neutron fluence on voltage suppressor with
voltage limiting of 50 V and 200 V manufactured by means of diffusion, it is dis-
covered that for both VS’s the ratios
U
br
(
Ф
)/
U
br
(0) and
U
lim
(
Ф
)/
U
lim
(0) depend ex-
ponentially on fluence of neutrons
U
br
(
Ф
)=
U
br
(0)exp(
K
1
Ф
)
(24)
U
lim
(
Ф
)=
U
lim
(0)exp(
K
2
Ф
)
(25)
In these expressions, coefficients in exponent have close values for break-
down voltage
К
1
, and differ more than 1.5 times for breakdown voltage
К
2
(Table
4). In order to understand the reasons for such deviation in the values of the coeffi-
cients under irradiation, dependence of breakdown voltage on concentration gradi-
ent, dependence of volume charge layer thickness on neutron fluence are analyzed
and the following capacity-voltage characteristics, like concentration gradients and
volume charge layer thicknesses are determined.
Dependences of capacity on blanking voltage at different neutron fluences
are described by known relation which is described cubic dependence of capaci-
tance from voltage peculiar for
p-n
-junction with linear distribution of impurities
С
-3
=
[12(
U+U
ext
)]/[
qa
(
εε
0
)
2
(
S
p-n
)
3
],
(26)
Table 4
Values of К
1
and К
2
coefficients
К
1
,
cm
2
/n
К
2,
cm
2
/n
U
lim
= 50 V
U
lim
=200 V
U
lim
= 50 V
U
lim
=200 V
6.3·10
-17
7.0·10
-17
7.1·10
-17
1.1·10
-16
72
where «
а
» is a true concentration gradient, which is described by expression
N(x)=a·х
, and depends exponentially on neutron fluence irradiation dose
а
=
а
(
Ф
=0)·exp(-
ВФ
).
(27)
These values calculated based on voltage-capacity characteristics for the
both VS’s and, despite significant difference in their specific resistances and values
of
B
in exponent occurred to be close to each other as follows 2.6·10
-16
cm
2
and
3.8·10
-16
cm
2
, differed only by not more than 30 % from average (3.2·10
-16
cm
2
).
As it is shown in Fig. 5, the experimental dependences (data points) of gra-
dient ratio
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0) on neutron fluence
Ф
and calculated curve exp(-
В·Ф
) at
В
=3.2·10
-16
cm
2
are in good agreement.
1- voltage suppressor for 50 V;
2- voltage suppressor for 200 V;
3- solid line – calculated data
Fig. 5. Dependence of concentration
gradient on dose of radiation
By comparing the exponential dependence of breakdown voltage on neut-ron
fluence (
Ф
),
)
10
6
.
6
exp(
)
0
(
/
)
(
17
Ф
Ф
U
Ф
U
br
br
(28)
with the exponential dependence of the effective concentration gradient on neutron
fluence
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0)=exp(-3.2·10
-16
·
Ф
) (29)
one can observe its universality regardless of
p-n
-junction structure and value of
а
before irradiation. Relation of voltage limitation and breakdown voltage to concen-
tration gradientwith dose dependence is reflected in linear dependence of limitation
voltage on neutron fluence. The experimental points of
а
(
Ф
)/
а
(
Ф
=0) ratio depend-
ence on neutron fluence
Ф
and calculated curve exp(-
В·Ф
) at
В
=3.2·10
-16
cm
2
are
in good agreement.In the voltage limitation mode the differential resistance is very
low, and voltage drop occurs to be less than 100 mV, therefore for the voltage
limitation
U
lim
=
U
br
+
I
lim
R
series
(30)
a base series resistance plays important role
R
series
=
R
series neutral base
+
R
series path base
(31)
In its turn
R
series neutral base
=
ρ
b
[(
d
mb
-W
)/
S
],
(32)
where,
ρ
b
– specific resistance of neutral base;
d
mb
– distance from metallurgical
73
p-n
-junction to
nn
+
contact. Resistance of some region in the VCR, where the field
is weak, can be determined by the follo- wing expression
R
series path base
= (
W
-
W
m
)
2
/(2·
εε
0
·S·V
sat
),
(33)
where,
W
m
–width of some region in the VCR in which shockwave ionization takes
place.
In order to calculate
R
series neutral base
(
Ф
) dependence one should know
ρ
b
(
Ф
) и
W
(
Ф
) dependence, where width dependence on fluence can be calculated by using
traditional expression for VCR width in graded
p-n
-junction
W
(
Ф
,
U
br
)=[(12
εε
0
·U
br
)/(
q·a
)]
1/3
.
(34)
Whereas, breakdown voltage can be calculated via VCR’s thickness and charge
carriers removal under neutron radiation as follows
K
ρ
= 1/
k
n
n
0
(
Ф
=0)
0.77
.
(35)
Their values for
n
-type and
p
-type silicon are
k
n
=851 and
k
р
=444, respectively.
Calculated voltage breakdown and limitation values, volume charge layer width
values
W
m
and specific resistance change coefficient
К
ρ
are shown in the Table 5
Table 5
Calculated values of characteristic parameters for different VS type
VS type
U
br
, V
U
lim
, V
W,
10
-4
cm
W
m
, 10
-4
cm
K
ρ,
10-
16
cm
2
VS 50 V
48.9
50.2
2.67·
1.09·
3.8·
VS 200 V
224.4
229.8
0.17·
8.4·
0.154
Within investigation of neutron-irradiation influence on linear
p-n
-junction
structure, it is interesting to study sizes of
i
-region, which is formed next to the
p-
n
-junction as a result of radiation. Empirical expression for concentration gradient
dependence on dose
а
(
Ф
) is presented in formula (27). The sizes of
i
-region can be
determined by the following expression
W
i
=
W
c
W
a
;
W
c
(
Ф
,
U
) =
εε
0
∙
S
p-n
/
C
p-n
(
Ф
,
U
),
W
a
(
Ф
,
U
) =[12∙
εε
0
∙(
U+U
d
)]/
q·a
(
Ф
)}
1/3
. (36)
Dependences of volume charge layer thickness on neutron fluence calculated by
means of formula (37) are presented in Fig. 6.
W
i
(
Ф
,
U
=0)
= [0,053/
a
(
Ф
=0)
0.94
]∙
Ф
, ………………………………….
(37)
Thus, expressions are obtained to estimate dependence of volume charge
layer thickness on neutron fluence and voltage applied, allowing prediction of pos-
sible changes in volume charge region in
р
+
nn
+
-
structure. Along with impurity
concentration gradient changes in the base, the life-times of some minority charge
carriers that determine response time of diode structure also change showing that
the shorter life-time, the better.
In both types of voltage suppressors (50 V) and (200 V) minority charge car-
riers life-times dependence on irradiation dose is minimal (optimal dose), which is
related to influence of recombination centers.
74
а)
voltage suppressor for 50 V
б)
voltage suppressor for 200 V
Fig. 6. W
i
= F(Ф,U=0) calculated dependence
It follows from Fig. 7, that dependence predicted above
τ
(
Ф
) with minimal
point determined by expression
Ф
=1/b exists indeed. The location of this minimal
point is determined by exponential factor
K
τ
(
Ф
). In our opinion, this fact is another
evidence supporting possibility to apply the model of Messenger to life-time de-
pendence calculation by using the following expression
)
exp(
)
(
Ф
b
А
Ф
K
(38) and
)
(
)
0
(
/
1
)
(
/
1
Ф
K
Ф
(39)
а) voltage suppressor for 50 V
б)
voltage suppressor for 200 V
Solid line – calculated data, dotted – experimental data
Рис. 7. Dependences of τ(Ф) for voltage suppressors
By neglecting 1/
τ
(0) one can obtain the following
)
/(
)
exp(
)
(
Ф
А
Ф
b
Ф
.
(40)
One can see that expression (40) has extremum (minimum) at
b
Ф
/
1
(41)
It is worth of mentioning that knee in minority charge-carriers life-time
dependence on irradiation dose points on change in recombination center forma-
tion mechanisms under neutron radiation, i.e. transition from linear dependence to
exponential dependence.
In the research it is discovered that breakdown voltage increases with irra-
diation dose regardless of initial breakdown voltage.
75
These facts are taken as grounds in bringing breakdown voltage values to
the required rated voltage value, as a tool in breakdown voltage control and distri-
bution range improvement of VS manufactured for breakdown voltage values of
100 and 200 V, respectively. Naturally, for this research it was important to deter-
mine dependence of breakdown voltage on fluence for VS with deviation from
rated values (100 V и 200 V). In particular, for 100V VS’s the studied samples
were divided into 5 groups with breakdown voltage of 95 V, 96 V, 97 V, 98 V, 99
V with 3÷4 samples in each group. Similarly, the samples were divided for 200V
VS’s.
Fig. 8 presents breakdown voltage dependence for these samples on neu-
tron fluence showing that the larger breakdown voltage deviation from rated value,
the higher fluence of neutrons is required to bring the sample to the rated break-
down voltage value.
It means that the dependences of neutron fluence required for irradiation are
shown for VS’s with given breakdown voltage values, which reach that of rated
after irradiation. These breakdown voltage dependences on irradiation dose can be
used as calibration curves when one needs to determine the neutron fluence applied
in «bringing» breakdown voltage to the rated value of voltage.
а) 5VS100 type diodes
б) 2.5VS200.1
type diodes
1- irradiation dose of voltage suppressors for given breakdown voltages;
2- breakdown voltages of voltage suppressors after irradiation
Fig. 8. Dependence of optimal irradiation dose on initial breakdown
voltage in voltage suppressors
Thus, modernization of production technology diffusion and optimization of
the parameters of high radiation exposure of silicon diodes and voltage limiters to
reduce the spread of Technology operating parameters, static power loss and
improve device yield.
CONCLUSION
1. Low-voltage suppressors manufacturing technology is developed based
on tube diffusion from high-concentrated arsenic source ensuring low deviation in
breakdown voltage and low differential resistance.
2. The method is developed to obtain high-adhesive and heat dissipating oh-
76
mic contact to silicon high-power diodes. This methods includes spraying of tung-
sten and silver thin (0.1÷0.3 μm) layers on both surfaces of
р-n-
junction plate, and
their consequent alloying with silver-plated copper heat compensator. This contact
is used in developed blocking diode, which prevents failure of occasionally
blocked unit of power station.
3. The method is developed for early stage rejection of voltage suppressors
before installing them in casing by means of newly introduced parameter «effi-
ciency coefficient», which is based on voltage suppressor resistance dependence on
current in the breakdown mode.
4. The voltage suppressor heat model is developed to calculate and imple-
ment optimal sizes of crystal heat-removing compensators, to determine location of
its active region relatively to the ohmic contacts, and, based on its characteristics,
to describe it as temperature voltage generator and heat flow generator.
5. The improved double-generator method is developed to measure voltage
limitation in high-power (pulse currents exceed dozens of Amperes) voltage sup-
pressors, which can be used in measurements of reverse voltage and pulse compo-
nent formed by current generator. Total measurement error occurs to be ~
%
2
,
which is three times less than that of known single-generator method.
6. The unit for electronic equipment protection is developed based on volt-
age suppressor, providing automatic connection-disconnection of consumers in
case of circuit overload.
7. The radiation technology is developed to optimize life-time of minority
charge carriers and reverse resistance recovery time, breakdown voltage in high-
frequency rectifier diodes and voltage suppressors.
8. Technological methods for calculation of reverse current and direct volt-
age drop, as well as volume charge layer thickness are developed to allow determi-
nation of optimal junction characteristics of high-frequency diodes related to
gamma and electron irradiation dose.
9. Gallium arsenide based current suppressor is designed for low-voltage
suppressor protection with reversible breakdown up to 14 V.
10. Results obtained in this dissertation related to voltage suppressor manu-
facturing technology and pulse parameters study methods are implemented in pro-
duction at JS “FOTON”.
77
ЭЪЛОН ҚИЛИНГАН ИШЛАР РЎЙХАТИ
СПИСОК ОПУБЛИКОВАННЫХ РАБОТ
LIST OF PUBLISHED WORKS
I бўлим (I часть; I part)
1. Rakhmatov A. Z.
Effect of Neutron Irradiation on the Structure of Silicon
p
–
n
Junctions of Voltage Limiters. // Semiconductors
© Pleiades Publishing, Ltd.,
2014 -Vol. 48, No 7 -Р.935-941.
2. Rahmatov A.Z., Abdulkhaev O.A., Karimov A.V., and Yodgorova D.M. Fea-
tures of the Performance of a Transient Voltage Suppressor in the Pulsed Mode
// Semiconductors
© Pleiades Publishing, Ltd.,
2013 -Vol. 47, No 3 -Р.387-
391.
3. Рахматов А.З. Влияние нейтронного облучения на процессы модуляции
базовой области кремниевой
p
+
nn
+
-
структуры // Физическая Инженерия
Поверхности – Харьков, 2013 – Том 11, № 1 -С. 4-7.
4. Рахматов А.З., Каримов А.В., Сандлер Л.С., Ёдгорова Д.М., Скорняков
С.П. Влияние гамма- и электронного облучения на ключевые параметры
мощных высокочастотных диффузионных диодов // Компоненты и техно-
логии -Санкт-Петербург, 2013. -№ 10 -С.140-142.
5. Каримов А.В., Ёдгорова Д.М., Рахматов А.З., Скорняков С.Л., Петров Д.А.,
Абдулхаев О.А. Исследование импульсных характеристик ограничителей
напряжения // Технология и конструирование в электронной аппаратуре -
Одесса, 2012 - № 3 - С.26-31.
6. Рахматов А.З., Каримов А.В., Ёдгорова Д.М., Абдулхаев О.А. Исследова-
ние влияния нейтронного облучения на характеристические параметры
кремниевых ограничителей напряжения // Компоненты и технологии -
Санкт-Петербург, 2012 - № 5 - С.52-54.
7. Рахматов А.З., Абдулхаев О.А., Каримов А.В., Ёдгорова Д.М., Скорняков
С.П. Приборные характеристики силовых диодов на основе кремниевых
p
+
-n
+
,
p
+
-n-n
+
и
p
+
-р-n-n
+
структур // Компоненты и технологии, -Санкт-
Петербург, 2012. -№ 4. -С.38-41.
8. Rahmatov A. Z., Abdulkhaev O. A., Karimov A. V., Yodgorova D. M. Thermal
model of the limiter diode // Journal of Engineering Physics and Thermophys-
ics
,
2012 Springer Science+Business Media Inc, Vol. 85 -No. 4 –Р. 836-844.
9. Rahmatov A. Z., Karimov A.V., Yodgorova D.M., Abdulkhaev O.A. Features of
producing an ohmic contact to frontal surfaces of photoconversion structures //
Applied Solar Energy. Allerton Press, Inc. 2012, -Vol. 48. -No. 2. -pp. 92-93.
10. Rahmatov A. Z., Petrov D.A., Karimov A.V., Yodgorova D.M., Abdulkhaev
O.A. Influence of neutron radiation on breakdown voltage of silicon voltage
limiter // Radioelectronics and Communication Systems -New York, 2012, -
Vol.55, -Issie 7, -pp.332-334.
11. Рахматов А.З., Каримов А.В. Анализ переходных процессов в радиацион-
но-облученных кремниевых
p
+
nn
+
структурах // Физическая Инженерия
Поверхности – Харьков, 2012 - Том. 10. -№4/ -С. 308-312.
78
12. Рахматов А.З. Влияние нейтронного излучения на емкостные характери-
стики кремниевого ограничительного диода // Петербургский журнал
электроники –Санкт-Петербург, 2012/ - № 4. - С. 53-55.
13. Rahmatov A.Z
.,
Tashmetov M.Yu., Sandler L.S. Neutron irradiation influence
on the silicon voltage limiter parameters // Вопросы Атомной Науки и техни-
ки - Киев, 2012. - №5(81) - С. 81-87.
14. Karimov A.V., Yodgorova D.M., Rahmatov A.Z
.,
Abdulkhaev O.A. Methods
to Decrease Losses of Energy Generated by Solar Electrical Modules // Applied
Solar Energy. Allerton Press, Inc.
2011
, -Vol. 47. -No. 3. -pp. 166-168.
15. Рахматов А.З., Ташметов М.Ю., Сандлер Л.С. Влияние проникающей ра-
диации на параметры кремниевого планарного высокочастотного высоко-
вольтного выпрямительного диода // Вопросы атомной науки и техники.
Серия:
Физика радиационных повреждений и радиационное материалове-
дение (98) -Киев, 2011. -№4. -С. 26-33.
16. Рахматов А.З., Каримов А.В., Скорняков С.П., Ёдгорова Д.М., Абдулхаев
О.А. Малогабаритные бескорпусные ограничители напряжения // Компо-
ненты и технологии - Санкт-Петербург, – 2011. – №9. – С. 54-55.
17. Рахматов А.З., Абдулхаев О.А., Каримов А.В., Кахоров А.А., Каландаров
Ж.Ж., Скорняков С.П. Определение эффективности ограничения напря-
жения диодных структур // Компоненты и технологии - Санкт-Петербург,
– 2011. – № 4 – С. 46-48.
18. Рахматов А.З., Ишенко О.П., Каримов А.В. Полупроводниковые ограни-
чители напряжения на основе кремниевых структур в электронных схемах
// Узбекский физический журнал –Ташкент, 2011.- № 6- С. 421-429.
19. Рахматов А.З., Скорняков С.Л., Каримов А.В., Ёдгорова Д.М., Абдулхаев
О.А., Бузруков У.М. Физико-технологические аспекты создания низковольт-
ных ограничителей напряжения на основе кремния // Технология и конструи-
рование в электронной аппаратуре. – Одесса, 2010. – № 5-6. – С. 30-35.
20. Каримов А.В., Рахматов А.З., Кахоров А.А., Каландаров Ж.Ж. Анализ ра-
боты ограничителей напряжения для защиты радиоэлектронной аппарату-
ры // Доклады Академии наук РУз. – Ташкент, 2010. – № 3. – С. 19-21.
21. № 2522786 Патент Российской Федерации от 21.05.2014г. "Конструкция
кварцевой ампулы для диффузии легирующих примесей в кремний мето-
дом закрытой трубы с встроенным приспособлением для управления ско-
ростью после диффузионного охлаждения кремниевых р-
n-
структур". Ав-
торы: Глухов А.В., Скорняков С.П., Перов Г.В., Масловский В.М., Рахма-
тов А.З., Синица А.В.
22. Патент РУз № IAP 04599 от 04.10.2012г. Бюл. №11. 30.11.2012 г. Модуль
защиты радиоэлектронной аппаратуры. Рахматов А.З., Каримов А.В.,
Ёдгорова Д.М., Абдулхаев О.А., Каландаров Ж.Ж., Каххоров А.А.
23 Патент РУз № IAP 04721 от 03.05.2013г. Бюлл. №6. 30.08.2013г. Полупро-
водниковый полевой диод. Рахматов А.З., Каримов А.В., Ёдгорова Д.М.
24. Патент РУз. № IAP 04571 от 22.08.2012г. Бюл., №9 28.09.2012г. Полупро-
водниковый блокирующий диод. Рахматов А.З., Каримов А.В., Ёдгорова
Д.М., Абдулхаев О.А., Бузруков У.М., Каландаров Ж.Ж.
79
II бўлим (II часть; II part)
25. Рахматов А.З., Ташметов М.Ю., Сандлер Л.С., Исматов Н.Б. Влияние
нейтронного облучения на параметры кремниевых ограничителей напря-
жения и метод прогнозирования их радиационной стойкости. / Препринт.
ИЯФ. Р-9-700. Ташкент – 2013. 19 стр.
26. Рахматов А.З. Разновидности диффузионной технологии получения
кремниевых силовых диодов // Современные информационные и элек-
тронные технологии: Труды международной научно-практической конфе-
ренции. 27-31 мая 2013. –Одесса, 2013. -Т. 2. –С. 227-229
.
27. Лутпуллаев С.Л., Рахматов А.З. О некоторых особенностях воздействия
гамма- и электронного облучения на мощные кремниевые диффузионные
диоды / «Фундаментальные и прикладные вопросы физики», 24-25 ноября
2013 г. –Ташкент. -С. 173-175.
28. Рахматов А.З., А.В.Каримов, М.Ю.Ташметов, Л.С.Сандлер, Н.Б.Исматов.
Влияние нейтронного облучения на время жизни неосновных носителей
заряда кремниевых ограничителей напряжения / «Фундаментальные и
прикладные вопросы физики», 14-15 ноября 2013 г. –Ташкент. -С. 215-218
29. Рахматов А.З., Сандлер Л.С., Скорняков С.П., Каримов А.В. Влияние
нейтронного облучения на структуру кремниевых диффузионных p-n-
переходов ограничителей напряжения / «Фундаментальные и прикладные
вопросы физики», 14-15 ноября 2013 г. –Ташкент. -С. 218-221.
30. Rahmatov A.Z. Influence of neutron irradiation on the life time of free carriers
in silicon restrictive diodes / International Conference on Nuclear science and
its application: Samarkand, Uzbekistan. September 25-28, 2012. pp. 231-232.
31. Каримов А.В., Рахматов А.З., Мирзаев А., Уринов Н.Н., Бойматов О.И.,
Эржонов М.О., Петров Д.А. Модуль защиты радиоэлектронной аппарату-
ры / Труды международной научно-практической конференции. // Совре-
менные информационные и электронные технологии: 23-27 мая 2011. –
Одесса, 2011. -Т. 2. –С. 167.
32. Ishenko O.P., Rahmatov A.Z., Karimov A.V. The operation conditions of the
restrictive diode in quieting mode / Young Scientists Conf. Optics and High
Tech. Mater. Sci. SPO-2010 October 21-24 – Kyiv, 2010, P. 198-200.
33. Рахматов А.З., Каримов А.В., Ёдгорова Д.М. Методика определения на-
пряжения ограничения // Современные информационные и электронные
технологии: Труды международной научно-практической конференции.
24-28 мая 2010. –Одесса, 2010. -Т. 2. –С. 147.
34. Рахматов А.З., Бузруков У.М. Особенности работы ограничителя напряже-
ния в импульсном режиме // Международная конференция посвященная 80-
летию академика Саидова М.С. «Фундаментальные и прикладные вопросы
физики», 24-25 ноября 2010 г. –Ташкент. -С. 187-189.
35. Рахматов А.З., Асроров Ш.А., Назаров Ж.Т. Одномерная модель конструкции
ограничительного диода / Современные техника и технологии горно-
металлургической отрасли и пути их развития // Материалы международной
научно-технической конференции 12-14 мая 2010.-Навои-2010. -С.230-231.
80
Автореферат “Тил ва адабиёт таълими” журнали тахририятида
тахрирдан ўтказилди (22.10.2014 йил)
Босишга рухсат этилди: 07.11.2014
Ҳажми: 1,5. Адади: 100. Буюртма: № 67
“Top Image Media” босмахонасида босилди.
Тошкент шаҳри, Я.Ғуломов кўчаси, 74-уй
81
82
